文献
J-GLOBAL ID:201702265931752768   整理番号:17A0912771

DRAMのSWD回路におけるNMOSFETのオフ状態ホットキャリア劣化と回復に関する研究【Powered by NICT】

Study on off-state hot carrier degradation and recovery of NMOSFET in SWD circuits of DRAM
著者 (8件):
資料名:
巻: 2016  号: IIRW  ページ: 91-94  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
サブワード線ドライバ(SWD)の短チャネルNMOSトランジスタのしきい値電圧劣化と回復を調べ,NMOSトランジスタのソースはオフ状態中の負電圧でバイアスした。は,しきい値電圧の劣化はオフ状態ホットキャリアストレスにより生じたことを見出した。オフ状態におけるサブワード線ドライバ(SWD)のNMOSトランジスタのゲートソース端子に印加した負バイアス電圧によるサブしきい値領域(0<V_GS<V_T)中である。この状況ではドレインに適用した高電圧,サブしきい値ドレイン電流はDIBL効果により増加した。さらに,高いエネルギーをもつホットキャリアMOSFETの誘電体/Si界面近傍の界面トラップを生成した。これらのホットキャリア劣化はしきい値電圧における正シフトを引き起こした。Aforementioned分解はバイアスと共に焼成により回収することができた。さらに,そのような回復の時間は短縮されたゲート端子た浮遊した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る