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J-GLOBAL ID:201702266970528454   整理番号:17A1125367

Si上の超薄強誘電Hf_0 5Zr_0 5O_2膜を横切る電子輸送【Powered by NICT】

Electron transport across ultrathin ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 films on Si
著者 (8件):
資料名:
巻: 178  ページ: 250-253  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0406B  ISSN: 0167-9317  CODEN: MIENEF  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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本研究では,高度にドープしたSi基板上に直接原子層堆積(A LD)技術により成長させた超薄(2.5nm)強誘電体多結晶Hf_0 5Zr_0 5O_2(HZO)薄膜の電子輸送特性について報告する。TiN上部電極を有するデバイスについて,分極反転後HZO層を横切る3まで可逆的電気抵抗変化R↑/R↓実証した。HZO層,分極測定,HZO層上の電流横方向分布と同様に電子バンド構造のDFT計算の多結晶構造をもつ電気抵抗スイッチングを相関した。このような解析は,強誘電HZO結晶粒内部の分極反転はTiN/HZO/n~+(p~+ )Si素子における電流輸送に寄与することを明らかにした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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