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J-GLOBAL ID：201702267406580203   整理番号：17A1723522

超短レーザパルスを用いたシリコンにおける非晶質-結晶ミクロ・ナノ構造の作製【Powered by NICT】

Fabrication of amorphous-crystalline micro- and nanostructures in silicon using ultrashort laser pulses

著者 (8件)： Fuentes-Edfuf Yasser (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain) ,  Garcia-Lechuga Mario (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain) ,  Puerto Daniel (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain) ,  Florian Camilo (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain) ,  Garcia-Leis Adianez (Instituto de Estructura de la Materia, CSIC, Serrano 121, 28006 Madrid, Spain) ,  Sanchez-Cortes Santiago (Instituto de Estructura de la Materia, CSIC, Serrano 121, 28006 Madrid, Spain) ,  Solis Javier (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain) ,  Siegel Jan (Laser Processing Group, Instituto de O ́ptica, CSIC, Serrano 121, 28006Madrid, Spain)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO/Europe-EQEC  ページ： 1  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンは,今日では技術の重要な材料の一つである。これは部分的にその特別な相変化動力学特性に関係している。特に,パルスレーザ照射による,けい素は局所過冷却達成[1]に依存して結晶(c )または非晶質(a )相で再固化できる。この特徴は最近多重レーザパルス曝露による結晶性シリコン中の非アブレーションLIPSS(レーザ誘起周期的表面構造[2])を作製した。誘起構造は,サブ波長周期[3]を持つC縞から構成されている。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 凝固 ,  *非晶質 ,  パルスレーザ照射 ,  アブレーション ,  *結晶 ,  サブ波長 ,  *ケイ素 ,  *ナノ構造 ,  多重化 ,  過冷却 ,  *レーザパルス ,  結晶度 ,  相転移 ,  表面構造
準シソーラス用語： レーザ誘起 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (6件)： レーザパルス ,  シリコン ,  非晶質 ,  結晶 ,  ナノ構造 ,  作製