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J-GLOBAL ID：201702267750855382   整理番号：17A1494994

2光子染料のない複合体2D及び3Dナノ構造のサブ波長リソグラフィー【Powered by NICT】

Sub-wavelength lithography of complex 2D and 3D nanostructures without two-photon dyes

著者 (6件)： Chaudhary Raghvendra P. (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India) ,  Jaiswal Arun (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India) ,  Ummethala Govind (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India) ,  Hawal Suyog R. (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India) ,  Saxena Sumit (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India) ,  Shukla Shobha (Nanostructures Engineering and Modeling Laboratory, Department of Metallurgical Engineering and Materials Science, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, MH 400076, India)
資料名： Additive Manufacturing  (Additive Manufacturing)
巻： 16  ページ： 30-34  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3016A  ISSN： 2214-8604  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 感光性高分子中の染料分子による一光子または二光子吸収は,高空間分解能を有するマイクロ/ナノ構造の直接2Dと3Dリソグラフィーを可能にし,人工的に構造化したナノ材料の作製に効果的に使用できる。しかし,この有用な技術の可能性を開放するに於ける大きなボトルネックである高価な,高い毒性と通常市販感光性高分子における不溶性染料の不可欠な使用である。ここでは,マイクロ/ナノ構造の直接描画のための,一光子または二光子吸収染料を用いずに高速でサブ波長分解能を持つ簡単,安価かつ一段階法を報告した。感光性高分子への,著者らの知る限り行われていない,安価な光開始剤の大量(20 wt%)を取り込み,サブ波長パターニングのためのその二光子吸収特性を利用した。複雑な2Dパターンと3Dメッシュは,サブミクロン分解能を用いて作製した,この方法の影響/汎用性を示すために市販の液体感光性高分子であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *複合体 ,  パターン形成 ,  毒性 ,  *リソグラフィー ,  分解能 ,  *三次元 ,  感光性高分子 ,  *染料 ,  構造形成 ,  *光子 ,  光開始剤 ,  ナノ材料 ,  *サブ波長 ,  高速度 ,  二光子吸収

著者キーワード (5件)： 2光子リソグラフィー ,  フェムト秒レーザ ,  Photoinitiator ,  二次元/三次元マイクロ/ナノ構造 ,  直接描画

分類 (1件)： 光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (8件)： 2光子 ,  染料 ,  複合体 ,  2D ,  3D ,  ナノ構造 ,  サブ波長 ,  リソグラフィー