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J-GLOBAL ID：201702267836346117   整理番号：17A0132709

金ナノ粒子上へのTiO₂の室温式原子層堆積法

Room temperature atomic layer deposition of TiO₂ on gold nanoparticles

著者 (6件)： Kikuchi Ko (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan) ,  Miura Masanori (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan) ,  Kanomata Kensaku (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan) ,  Ahmmad Bashir (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan) ,  Kubota Shigeru (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan) ,  Hirose Fumihiko (Graduate School of Science and Engineering, Yamagata University, 4-3-16 Jonan, Yonezawa 992-8510, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 1  ページ： 01B121-01B121-5  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テトラキス(ジメチルアミノ)チタンとプラズマ励起加湿アルゴンとを用いて金ナノ粒子上にTiO₂を堆積可能な室温式原子層堆積(ALD)装置を開発した。モニタ用のシリコン試料上でTiO₂のサイクル当りの成長は0.25nm/cycleであった。ナノ粒子の被覆に応用するために,原材料(金粒子)がALD装置内のサセプタに静電的に付着して,ガスによる輸送を避ける。この粒子はALDプロセス中に,回転するスクレイパーでかき混ぜられる。この装置では,ナノ粒子の凝集なしにTiO₂のコンフォーマルな堆積が可能である。TiO₂の殻被覆の厚さは,ALDサイクルの回数で制御される。本稿では,金ナノ粒子上へのナノメータスケールの膜厚でのTiO₂の堆積に関して報告する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *酸化チタン ,  金 ,  *ナノ粒子 ,  基板 ,  ケイ素 ,  *成長速度 ,  *被覆 ,  *膜厚 ,  吸着 ,  性能
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  共形被覆 ,  静電吸着 ,  サイクル・パフォーマンス

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 金ナノ粒子 ,  TiO2 ,  室温 ,  原子層堆積法