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J-GLOBAL ID：201702268259318936   整理番号：17A1444471

XUV領域におけるヘリカルアンジュレータからの光渦ビームの観測【Powered by NICT】

Observation of an optical vortex beam from a helical undulator in the XUV region
著者 (11件)：
Kaneyasu Tatsuo

Kaneyasu Tatsuo について

(Saga Light Source, Tosu841-0005, Japan)

Saga Light Source, Tosu841-0005, Japan について

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Hikosaka Yasumasa

Hikosaka Yasumasa について

(Graduate School of Medicine and Pharmaceutical Sciences, University of Toyama, Toyama930-0194, Japan)

Graduate School of Medicine and Pharmaceutical Sciences, University of Toyama, Toyama930-0194, Japan について

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Fujimoto Masaki

Fujimoto Masaki について

(UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan)

UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan について

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Fujimoto Masaki

Fujimoto Masaki について

(Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan)

Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan について

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Iwayama Hiroshi

Iwayama Hiroshi について

(UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan)

UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan について

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Iwayama Hiroshi

Iwayama Hiroshi について

(Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan)

Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan について

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Hosaka Masahito

Hosaka Masahito について

(Synchrotron Radiation Research Center, Nagoya University, Nagoya464-0824, Japan)

Synchrotron Radiation Research Center, Nagoya University, Nagoya464-0824, Japan について

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Shigemasa Eiji

Shigemasa Eiji について

(UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan)

UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan について

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Shigemasa Eiji

Shigemasa Eiji について

(Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan)

Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan について

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Katoh Masahiro

Katoh Masahiro について

(UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan)

UVSOR Facility, Institute for Molecular Science, Okazaki444-8585, Japan について

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Katoh Masahiro

Katoh Masahiro について

(Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan)

Sokendai (The Graduate University for Advanced Studies), Okazaki444-8585, Japan について


資料名：
Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)

Journal of Synchrotron Radiation について


巻： 24  号： 5  ページ： 934-938  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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ヘリカルアンジュレータからの第二高調波放射として生成し,波長60nmでの光学渦ビームの観測を報告した。光渦ビームの螺旋波面は螺旋状のアンジュレータと他のアンジュレータからの垂直ビームからの渦ビーム間の干渉パターンを測定することによって検証した。干渉パターンは比較的大きな電子ビームエミッタンスのためにわずかにぼけたが,渦ビームの螺旋波面のおかげで干渉特徴を観察することができる。実験結果をシミュレーションによりよく再現された。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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波長

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電子ビーム

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エミッタンス

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*アンジュレータ

アンジュレータ について

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干渉

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シソーラス用語/準シソーラス用語
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干渉パターン

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第二高調波

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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (3件)：
XUV渦

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ヘリカルアンジュレータ放射

ヘリカルアンジュレータ放射 について

, 
干渉

干渉 について

分類 (3件)：
分類
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線源,照射装置 
(MC01020V)

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,  光物性一般 
(BM08010A)

光物性一般 について

,  電磁場中の粒子の運動及び放射 
(BD01030Y)

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タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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ビーム

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観測

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