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J-GLOBAL ID：201702268590561957   整理番号：17A1820510

液体シリコン膜蒸着のための理想的な前駆体としての分岐ヒドロシランオリゴマ【Powered by NICT】

Branched Hydrosilane Oligomers as Ideal Precursors for Liquid-Based Silicon-Film Deposition

著者 (12件)： Haas Michael (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Christopoulos Viktor (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Radebner Judith (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Holthausen Michael (Evonik Creavis GmbH, Paul-Baumann-Strasse 1, 45772, Marl, Germany) ,  Lainer Thomas (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Schuh Lukas (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Fitzek Harald (Institute of Electron Microscopy and Nanoanalysis, Technische Universitaet Graz, Steyrergasse 17, 8010, Graz, Austria) ,  Kothleitner Gerald (Institute of Electron Microscopy and Nanoanalysis, Technische Universitaet Graz, Steyrergasse 17, 8010, Graz, Austria) ,  Torvisco Ana (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Fischer Roland (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria) ,  Wunnicke Odo (Evonik Creavis GmbH, Paul-Baumann-Strasse 1, 45772, Marl, Germany) ,  Stueger Harald (Institute of Inorganic Chemistry, Technische Universitaet Graz, Stremayrgasse 9/IV, 8010, Graz, Austria)
資料名： Angewandte Chemie  (Angewandte Chemie)
巻： 129  号： 45  ページ： 14259-14262  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0396A  ISSN： 0044-8249  CODEN： ANCEAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多グラム規模に2,2,3,3-テトラシリルテトラシラン 3と2,2,3,3,4,4-ヘキサシリルペンタシラン 4を得るための便利な合成法を提示した。プロトン共役~29Si NMR分光法および単結晶X線結晶学は明確な構造帰属を可能にした。それらのユニークな特性,空気およびそれらの増強された光吸収250nm以上の接触に及ぼすそれらの非発火性特性に反映されているために,3と4は液相堆積(LPD)のための貴重な前駆体とシリコン薄膜の処理である。優れた品質の非晶質シリコン(a Si:H)膜を3から出発して堆積し,導電率測定,偏光解析法,光学顕微鏡,およびRaman分光法によって特性化した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *シラン ,  *前駆体 ,  単結晶 ,  Raman分光法 ,  キャラクタリゼーション ,  液相 ,  偏光解析法 ,  *ケイ素 ,  アモルファスシリコン ,  着火性 ,  *蒸着 ,  X線結晶学 ,  光学顕微鏡 ,  陽子
準シソーラス用語： シリコン薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Duenne Filme ,  Oligomerisierung ,  シラン ,  Siliciumfilme ,  UV/Vis Spektroskopie

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  光学的測定とその装置一般  (BD07010S)

タイトルに関連する用語 (4件)： シリコン膜 ,  蒸着 ,  前駆体 ,  分岐