文献

J-GLOBAL ID：201702269973008007   整理番号：17A1628142

低周波PECVDプロセスによるNをドープしたTiO_2多機能薄層の最適化【Powered by NICT】

Optimization of N-doped TiO₂ multifunctional thin layers by low frequency PECVD process

著者 (9件)： Youssef Loraine (Institut Europeen des Membranes (IEM), UMR5635 (ENSCM, UM, CNRS), University of Montpellier, Place Eugene Bataillon, CC047, 34095 Montpellier Cedex 5, France) ,  Youssef Loraine (Laboratoire Chimie-Physique des Materiaux (LCPM)/Plateforme de Recherches en Nanosciences (PR2N), Lebanese University, B.P. 90656 Fanar, Jdeidet el Metn, Beirut, Lebanon) ,  Kinfack Leoga Arnaud Joeel (Institut Europeen des Membranes (IEM), UMR5635 (ENSCM, UM, CNRS), University of Montpellier, Place Eugene Bataillon, CC047, 34095 Montpellier Cedex 5, France) ,  Roualdes Stephanie (Institut Europeen des Membranes (IEM), UMR5635 (ENSCM, UM, CNRS), University of Montpellier, Place Eugene Bataillon, CC047, 34095 Montpellier Cedex 5, France) ,  Bassil Joeelle (Laboratoire Chimie-Physique des Materiaux (LCPM)/Plateforme de Recherches en Nanosciences (PR2N), Lebanese University, B.P. 90656 Fanar, Jdeidet el Metn, Beirut, Lebanon) ,  Zakhour Mirvat (Laboratoire Chimie-Physique des Materiaux (LCPM)/Plateforme de Recherches en Nanosciences (PR2N), Lebanese University, B.P. 90656 Fanar, Jdeidet el Metn, Beirut, Lebanon) ,  Rouessac Vincent (Institut Europeen des Membranes (IEM), UMR5635 (ENSCM, UM, CNRS), University of Montpellier, Place Eugene Bataillon, CC047, 34095 Montpellier Cedex 5, France) ,  Ayral Andre (Institut Europeen des Membranes (IEM), UMR5635 (ENSCM, UM, CNRS), University of Montpellier, Place Eugene Bataillon, CC047, 34095 Montpellier Cedex 5, France) ,  Nakhl Michel (Laboratoire Chimie-Physique des Materiaux (LCPM)/Plateforme de Recherches en Nanosciences (PR2N), Lebanese University, B.P. 90656 Fanar, Jdeidet el Metn, Beirut, Lebanon)
資料名： Journal of the European Ceramic Society  (Journal of the European Ceramic Society)
巻： 37  号： 16  ページ： 5289-5303  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0801B  ISSN： 0955-2219  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 350°C程度の低い温度で動作する,複数の低周波プラズマ増強化学蒸着(PECVD)プロセスは,単一配向純およびN添加アナターゼ膜を調製するために実行した。層はドーピング剤として前駆体,NH_3としてチタンイソプロポキシドを用いて合成した。厚さ500nmに近い均一なミクロ柱状多孔質薄膜を得るために可能にした最適化されたPECVD条件。蒸着室におけるアンモニア導入後TiO_2格子への窒素組込みを証明した深さプロファイリングXPS分析。Nドーピングのもう一つの証明として,RamanおよびXRDピークシフトが観察された。このような薄膜は活性領域はプラズマ相におけるドーピング剤の割合を調整することによって紫外から調整した可視領域にできる効率的光触媒材料として実証された。その微細構造と光触媒特性のために,調製した薄層は,太陽光水分解電池の陽極材料として関心を持つべきである。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *薄膜 ,  多孔性 ,  *最適化 ,  光触媒 ,  活性部位 ,  プラズマ ,  *ドーピング ,  微細構造 ,  X線回折 ,  *LF【周波数】 ,  深さプロフィル ,  X線光電子分光法 ,  アンモニア
準シソーラス用語： 水分解 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： TiO_2 ,  低周波プラズマ ,  Nドーピング ,  展望

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低周波 ,  PECVD ,  プロセス ,  ドープ ,  多機能 ,  薄層 ,  最適化