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J-GLOBAL ID:201702270503086103   整理番号:17A1060345

n型Cu_0.008Bi_2Te_2 7Se_0における熱電性能を強化するためのバナジウムによるドーピングとバンドエンジニアリング【Powered by NICT】

Doping and band engineering by vanadium to enhance the thermoelectric performance in n-type Cu0.008Bi2Te2.7Se0.3
著者 (9件):
資料名:
巻: 517  ページ: 1-5  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0676B  ISSN: 0921-4526  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Sc,Ti,Vをドープしたn型Cu_0 0.008Bi_2Te_2 7Se_0の多結晶バルクは融液凝固と放電プラズマ焼結により調製し,それらの熱電輸送特性を調べた。Cu_0 0.008Bi_2Te_2 7Se_0の格子熱伝導率はBiサイトに及ぼすSc,TiおよびV原子の置換によって強化された点欠陥フォノン散乱によりやや削減された。一方,Cu_0 0.008Bi_2Te_2 7Se_0の力率はVのドーピングによって顕著に増大した。実験および理論的考察によって,Vドーピングにより向上したパワーファクタはFermi準位で修飾したDOSによる状態の増加した密度(DOS)有効質量に起因することが分かった。結果として,300Kで0.85の増強されたzTは1at%VドープCu_0 0.008Bi_2Te_2 7Se_0(Cu_0 0.008Bi_1 0.98V_0 0.02Te_2 7Se_0,3)で得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
分類
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ガラスの性質・分析・試験  ,  半導体薄膜  ,  非晶質・液体半導体の電気伝導 
タイトルに関連する用語 (5件):
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