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J-GLOBAL ID：201702270964038347   整理番号：17A1482905

C_2H_5OH/Arプラズマで作製したCoFeB磁性薄膜の異方性エッチング【Powered by NICT】

Anisotropic etching of CoFeB magnetic thin films in C₂H₅OH/Ar plasma

著者 (6件)： Choi Jae Sang (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea) ,  Garay Adrian Adalberto (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea) ,  Hwang Su Min (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea) ,  Lee Jae Yong (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea) ,  Cho Doo Hyeon (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea) ,  Chung Chee Won (Department of Chemistry and Chemical Engineering, Center for Design and Applications of Molecular Catalysts, Inha University, 100 Inharo, Nam-gu, Incheon 22212, Republic of Korea)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 637  ページ： 49-54  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiNハードマスクパターン化されたCoFeB薄膜のエッチ特性をC_2H_5OH/Ar混合ガス中の誘導結合プラズマ反応性イオンエッチングにより調べた。エッチプロフィルに及ぼすガス混合物濃度,高周波コイル電力,dcバイアス電圧,及びプロセス圧力の影響を調べた。高度異方性のエッチングプロファイルは25%から50%にC_2H_5OH濃度で達成された。さらにエッチプロファイルの異方性の程度はC_2H_5OH濃度減少で増加した。rfコイル電力とdcバイアス改善されエッチプロファイルが増加し,プロセス圧力は減少した。発光分光法はプラズマ中に,他のものの中で,[C],[H],[O]及び[Ar]種の存在を示したが,CoFeB薄膜表面のX線光電子分光分析は,Co,Fe,およびB酸化物の存在,および炭素含有化合物の沈着を認めた。結果は,エッチ機構は物理的スパッタリング,C_xH_y抑制層の膜と形成の酸化による支援によって駆動されることを示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： X線光電子分光法 ,  RIE【エッチング】 ,  パターン形成 ,  スパッタリング ,  *異方性 ,  *エッチング ,  酸化物 ,  X線光電子スペクトル ,  バイアス ,  混合気体 ,  *磁性薄膜 ,  発光分光法 ,  誘導結合プラズマ
準シソーラス用語： バイアス電圧 ,  ハードマスク ,  窒化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： コバルト鉄ほう素 ,  薄膜 ,  誘導結合プラズマ反応性イオンエッチング ,  エタノール ,  磁気ランダムアクセスメモリ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ar ,  プラズマ ,  作製 ,  磁性薄膜 ,  異方性エッチング