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J-GLOBAL ID:201702271139716433   整理番号:17A1483012

バナジウム被覆の高出力インパルスマグネトロンスパッタリング蒸着を相乗増強電場と磁場【Powered by NICT】

Electric and magnetic fields synergistically enhancing high power impulse magnetron sputtering deposition of vanadium coatings
著者 (5件):
資料名:
巻: 144  ページ: 125-134  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高出力インパルスマグネトロンプラズマ(HIPIMS)は,新規な析出技術,高イオン化度を提供することの利点を持つとして採用した。対照的に,イオンリターン効果により,堆積速度は通常の直流と比較して相対的に低かった。本論文では,外部電場と外部磁場は,HIPIMS((E MF)-HIPIMS)を同時に向上被覆のより高い堆積速度を達成した。バナジウム被覆は,同等の平均ターゲットパワーで(E MF)-HIPIMSにより堆積した。アノード電圧を70Vに設定した場合(E MF)-HIPIMSモードで測定した基板ピークイオン電流密度はHIPIMS条件で発見された電流密度~4倍増加した。高度にイオン化した(E MF)-HIPIMSプラズマからの増強されたイオンフラックス衝撃は滑らかな表面とより緻密な構造の形成をもたらした。バナジウム蒸着のための同じ平均ターゲットパワーでは,(E MF)-HIPIMSは,従来のHIPIMSと比較して,より高い堆積速度を示した約73%であった。(E MF)-HIPIMSスパッタバナジウム被覆はRockwell接着試験によるHIPIMSに比べて有意にサイズの大きい膜と基板界面結合強さを示した。さらに,(E MF)-HIPIMSスパッタバナジウム被覆は基板とHIPIMS試料に比べて改善された摩擦係数と改善された耐食性を示した。改善を,向上した粒子イオン化と強いイオン衝撃により生じた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (3件):
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金属薄膜  ,  固体の機械的性質一般  ,  防食 

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