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J-GLOBAL ID：201702271623107255   整理番号：17A0747535

界面活性剤を含まない疎水性会合に基づく自律自己修復ヒドロゲル【Powered by NICT】

An autonomous self-healing hydrogel based on surfactant-free hydrophobic association

著者 (4件)： Owusu-Nkwantabisah Silas (Kodak Research Laboratories Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650) ,  Gillmor Jeffrey R. (Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650) ,  Switalski Steven C. (Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650) ,  Slater Gary L. (Technical Solutions Division, Eastman Kodak Company, 1999 Lake Avenue, Rochester, New York, 14650)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 134  号： 19  ページ： ROMBUNNO.44800  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己修復ヒドロゲルは,創傷被覆材および被覆を含む種々の応用にとって魅力的である。本論文では,界面活性剤を含まない疎水性会合を含む自律自己修復ヒドロゲル系の容易な調製と特性化を述べた。ヒドロゲルはメタクリル酸ベンジル(B),メタクリル酸オクタデシル(O),およびメタクリル酸(MA)の共重合体から構成された。ヒドロゲルは臨界高分子濃度以上オクタデシル基の強い分子間疎水性会合の形成を達成するために制御された脱水法を介して調製した。破砕ヒドロゲルは外部の介入なしに30分以内に治癒した。ヒドロゲルの高分子含有量の増加は31wt%から39wt%へのせん断弾性率の3倍の増加と緩和時間の50%の減少をもたらした。31wt%高分子含有量のヒドロゲルへの4mM NaClの添加はより長い緩和時間2.5時間とせん断弾性率の24%の減少をもたらした。ヒドロゲルは四倍までその重量による水,疎水性会合架橋のロバスト性を裏付けるを膨潤した。ヒドロゲルのバルク特性をO基の疎水性会合と高分子鎖中のMA基の静電相互作用の観点から考察した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 緩和時間 ,  *界面活性剤 ,  高分子鎖 ,  高分子 ,  塩化ナトリウム ,  *疎水性 ,  静電相互作用 ,  ロバスト性 ,  共重合体 ,  *ヒドロゲル ,  剛性率 ,  キャラクタリゼーション ,  膨潤 ,  脱水
準シソーラス用語： *自己修復 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： ヒドロゲル ,  疎水性会合 ,  自己修復

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 界面活性剤 ,  疎水性 ,  会合 ,  自律 ,  自己修復 ,  ヒドロゲル