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J-GLOBAL ID：201702272181251435   整理番号：17A0785971

創造的プロセス開発の新展開 活性酸素種の高濃度生成・曝露を実現した新規反応プロセスとそのプロセス装置

著者 (4件)： 高辻義行 (九州工大 大学院生命体工学研究科) ,  山崎亮太 (九州工大 先端エコフィッティング技術研究開発セ) ,  春山哲也 (九州工大 大学院生命体工学研究科) ,  春山哲也 (九州工大 先端エコフィッティング技術研究開発セ)
資料名： ケミカルエンジニヤリング  (Chemical Engineering (Tokyo))
巻： 62  号： 7  ページ： 467-471  発行年： 2017年07月01日 
JST資料番号： F0134A  ISSN： 0387-1037  CODEN： CMNGA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 活性酸素種の高濃度生成・曝露を実現した新規反応プロセスとそのプロセス装置を次の項目に分類して紹介する。1)活性酸素種とフリーラジカル,2)酸素O₂と活性酸素4種の電子配置,3)活性酸素種の正確な定量(活性酸素種の種類と濃度),4)Radical Vapor Reactorの構築と応用技術,5)活性酸素種の殺菌,材料改質(炭素材料)。この反応プロセスは活性酸素種(HO・,¹O₂)を,高濃度・連続的に生成し,その活性酸素雰囲気を対象物に曝露できる。Radical Vapor Reactorによる活性酸素種曝露プロセスの応用技術として殺菌や材料改質があるが,その他,応用技術の検討がされている。

シソーラス用語： *活性酸素 ,  *化学プロセス ,  電子配置 ,  ラジカル ,  反応器
準シソーラス用語： フリーラジカル

分類 (1件)： 反応操作(単位反応)  (XE01040I)

タイトルに関連する用語 (9件)： 創造 ,  プロセス ,  開発 ,  展開 ,  活性酸素種 ,  高濃度 ,  曝露 ,  反応プロセス ,  プロセス装置