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J-GLOBAL ID：201702272637025772   整理番号：17A0576513

液体分離転写技術を用いた曲面形状への反射防止構造の作製

著者 (2件)： 内田朋也 (東京理大 大学院基礎工学研究科) ,  谷口淳 (東京理大 大学院基礎工学研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.B15  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガラス表面での光の反射によって光学レンズ性能が妨げられてしまうことがある。そこで,本研究では薄い残膜層を有する反射防止構造を光学レンズ上に得るために,ロールプレス方式によるLTIL(Liquid Transfer Imprint Lithography)プロセスを用いて,大気中で約100nm以下の残膜層を有した反射防止構造を曲面形状に得ることに成功した。反射率は約0.1%を達成し,均一性と再現性も確認された。本研究の成果は光学素子の性能及び生産性向上への寄与が期待される。(著者抄録)

シソーラス用語： *レンズ ,  光学材料 ,  *反射防止膜 ,  *光反射 ,  微細構造 ,  曲面 ,  転写 ,  生産性向上 ,  光学素子 ,  ガラス ,  ロール ,  反射率 ,  大気中
準シソーラス用語： *反射防止構造

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (4件)：

• N. Koo, J. W. Kim, M. Otto, C. Moormann, and H. Kurz, J. Vac. Sci. Technol. B 29 (2011) 06FC12.
• C. Moormann, N. Koo, J. Kim, U. Plachetka, F. Schlachter, C. Nowak, Microelectron. Eng. 100 (2012) 28.
• T. Uchida, F. Yu, M. Nihei, J. Taniguchi, Microelectron. Eng. 153 (2016) 43.
• J. Taniguchi, Y. Nemoto, Y. Sugiyama, J. Nanosci. Nanotechnol. 9 (2009) 445.

タイトルに関連する用語 (5件)： 液体分離 ,  転写 ,  曲面 ,  反射防止構造 ,  作製