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J-GLOBAL ID：201702274663976739   整理番号：17A1056797

非晶質炭窒化けい素のプラズマ増強化学蒸着:大気下での結合構造,屈折率,機械的応力とその加齢の蒸着温度依存性【Powered by NICT】

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon carbonitride: Deposition temperature dependence of bonding structure, refractive index, mechanical stress and their aging under ambient air

著者 (4件)： Huber Christian (Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany) ,  Huber Christian (Institute of Applied Physics, Karlsruhe Institute of Technology, Karlsruhe 76131, Germany) ,  Stein Benedikt (Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany) ,  Kalt Heinz (Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 634  ページ： 66-72  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマ増強化学蒸着による200°Cと395°Cの間の温度で堆積した非晶質炭窒化けい素をFourier変換赤外(FTIR)分光法,X線光電子分光法,偏光解析法,紫外可視近赤外の反射率 透過分光法,残留応力測定およびエッチ試験フッ化水素酸(HF)により特性化した。光学的および機械的特性は,堆積直後および大気中での貯蔵後の両方で測定した。FTIRスペクトルから導出した結合構造はより高い堆積温度は水素分子の解離に起因する高い橋かけ度を有するより緻密な材料をもたらし,それによって水素終端結合の量を低減させることを示した。は増加した屈折率と減少した圧縮応力レベルだけでなく,堆積したままの層のHFエッチングに対する良好な耐性をもたらす。薄膜への環境湿度の拡散は,その高い多孔度のより顕著により低温で堆積した層に影響を与える主要な老化機構として同定された。得られた吸着水分子は屈折率の減少と圧縮応力の増加を伴う層厚さの増加の原因となる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *屈折率 ,  X線光電子スペクトル ,  エッチング ,  *非晶質 ,  空隙率 ,  圧縮応力 ,  X線光電子分光法 ,  薄膜 ,  偏光解析法 ,  *プラズマCVD ,  架橋度 ,  残留応力 ,  *温度依存性 ,  機械的性質
準シソーラス用語： FTIRスペクトル ,  *炭窒化ケイ素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 非晶質炭窒化けい素 ,  a-SiCN:H ,  屈折率 ,  機械的応力 ,  FTIR ,  加齢

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (9件)： 非晶質 ,  炭窒化けい素 ,  プラズマ増強化学蒸着 ,  大気 ,  屈折率 ,  機械的応力 ,  加齢 ,  蒸着 ,  温度依存性