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J-GLOBAL ID：201702275422232906   整理番号：17A1258676

フォトリソグラフィーのためのネオン回収【Powered by NICT】

Neon recovery for photolithography

著者 (4件)： Ebert Chris (Linde Electronics and Premium Products, Alpha, NJ, USA) ,  Stout Sig (Linde Electronics and Premium Products, Alpha, NJ, USA) ,  Heimerl Karl (Linde Electronics and Premium Products, Alpha, NJ, USA) ,  Adams Matt (Linde Electronics and Premium Products, Alpha, NJ, USA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： MIPRO  ページ： 380-383  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ネオンは宿主の工業的応用に利用されていることを大気中に存在する稀な希ガスである。半導体製造では,ガスは,DUVフォトリソグラフィーのためのレーザ光を発生させるために使用されるガス混合物中の成分の一つとして使用されている。これらの応用のために,ガスはエキシマレーザ中のアルゴンとフッ素と混合した193nmの波長のレーザ光を発生させた。エキシマレーザでは,ガス混合物を連続的に補充し,使用したガスは危険な残留ガスの洗浄と典型的に大気へ放出された。本論文では,エキシマレーザからの流出物を捕獲することにより混合ガスをリサイクルするために用いる技術を述べた。エキシマレーザ廃棄物の流れからネオン含有量のリサイクル供給不足に起因するネオン供給変動を最小化した。リサイクルネオンは,ウエハメーカにネオンのコストを安定化し,また低炭素フットプリントをもたらすガスを製造するためのエネルギーコスト減少させた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 残留ガス ,  エネルギーコスト ,  アルゴン ,  *フォトリソグラフィー ,  廃棄物 ,  レーザビーム ,  フッ素 ,  *ネオン ,  リサイクル ,  混合気体 ,  波長 ,  希ガス ,  エキシマレーザ
準シソーラス用語： フットプリント ,  半導体製造 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： フォトリソグラフィー ,  ネオン