生産性向上のためのNXT:1980Di液浸スキャナーへのレイアウト独立レベリング(LIL)

VAN HOOF Bram; HOLSCHER Arjan; GOMMERS Ralf; COTTAAR Jeroen; RAAS Marcel; KHALEK Samah; VAN KEMENADE Jan; VONCKEN Maarten; DE GRAAF Roelof; OTI Elliot; WEICHSELBAUM Stefan; DROSTE Richard; LEE ByeongSoo; CHANG Chansam; KANG Young Seog; KIM Young Ha; KONG Jeong-Heung; JANG Jong Hoon; NAM YoungSun; HWANG Hyunwoo

文献

J-GLOBAL ID：201702275806639607 整理番号：17A1090541

生産性向上のためのNXT:1980Di液浸スキャナーへのレイアウト独立レベリング(LIL)

Layout Independent Leveling (LIL) on NXT:1980Di immersion scanners for enhanced productivity

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資料名：
巻： 10147 ページ： 101471A.1-101471A.8 発行年： 2017年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ASML300mmスキャナーシステムをTWINSCAN(XT/NXT)プラットフォームに作り,ドライと液浸リソスキャナーで高い生産性レベルを示した。NXT:1980Di液浸スキャナーは274wphを高い生産性を示しつつ重ね合わせ精度は維持している。NXT:1980Di液浸スキャナーは新レベリングモードを装着でき,ウエハ焦点高さマップ測定に費やされる時間を大きく低減させた。新レベリングモードでは,焦点高さマップはレベルセンサの全幅を使って測定され。レベリングスキャンの回数を最少にしている。本稿はTWINSCANプラットフォームへのLIL法の実装を記し,テストと顧客製品ウエハにたいする合焦/レベリング性能を報告した。測定時間の利得は露光フィールドのレイアウトに依存するが,典型的顧客レイアウトで利得は1.4から1.6秒の間であった。

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固体デバイス製造技術一般

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