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J-GLOBAL ID:201702276918855732   整理番号:17A0090021

180nm CMOSプロセスを用いたテラヘルツ検出器の設計と評価

Design and fabrication of terahertz detectors based on 180 nm CMOS process technology
著者 (7件):
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巻: 116  号: 375(ED2016 80-95)  ページ: 17-22  発行年: 2016年12月12日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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近年,テラヘルツ波を用いたイメージングが注目を集めている。本研究では,イメージングアレイへの搭載に向けて,イメージングピクセルを180nm Si CMOSプロセスを用いて設計・試作し評価した。イメージングピクセルは,MOSFETの非線形性を用いたテラヘルツ検出器,マイクロストリップパッチアンテナ,およびインピーダンス整合回路より構成される。イメージングピクセルのサイズは250x180μm2である。イメージングピクセルはキャリア周波数0.915THzにおいて51.9kV/WのResponsivity,変調周波数31Hzにおいて358pW/Hz1/2のNEP(Noise Equivalent Power)を示した。NEPは100kHzで変調することで42pW/Hz1/2が期待される。(著者抄録)
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分類 (3件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  マイクロ波・ミリ波通信  ,  図形・画像処理一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
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