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J-GLOBAL ID：201702278395561413   整理番号：17A0132693

流動床反応器における原子層堆積のプロセス最適化の機構モデル化研究

Mechanistic modeling study of atomic layer deposition process optimization in a fluidized bed reactor

著者 (8件)： Duan Chen-Long (State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Zhu Peng-Hui (State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Deng Zhang (State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Li Yun (State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Shan Bin (School of Materials Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Fang Hai-Sheng (Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Feng Guang (Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China) ,  Chen Rong (State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, 1037 Luoyu Road, Wuhan, Hubei 430074, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 1  ページ： 01B102-01B102-9  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノパーティクルの表面修飾は,独特の物理的,化学的,生物学的性質をもつナノパーティクルを設計する優れた能力のために大いに注目を浴びている。原子層堆積(ALD)はナノパーティクルの正確な表面修飾に大いに有望であることが示されてきた。しかし,ナノパーティクルの大きな表面積のため大量の前駆体を必要とし,パーティクル間の不均一な侵入が前駆体の拡散を制限し,プロセス時間を長くする。高い気体-固体間相互作用と実用生産への規模拡大の可能性のために,流動床反応器(FBRs)はナノパーティクルのALDのために利用可能なことが示されてきた。流動床でのALDプロセスは複雑で多くの変数を有するため,多くの実験的試行を通じた長く面倒なプロセス最適化を必要とする。本稿では,流体力学のコンピュータ計算と分子流拡散の理論的計算を用いた機構モデル化を通じて,FBR-ALDにおけるALDプロセスについて検討する。その結果,最小パルス時間と前駆体の浪費は前駆体の質量分率の増加に反比例することが示される。最適な前駆体の利用は,最小の流動速度の下で得られる。流体力学は特定の構造とは独立なため,今回の機構モデル化研究はFBR-ALDのプロセス最適化のために役立つ。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *流動層反応器 ,  *化学蒸着 ,  過程 ,  *最適化 ,  *ナノ粒子 ,  *モデリング
準シソーラス用語： 流動床反応器 ,  *原子層堆積 ,  プロセス

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 流動床反応器 ,  原子層堆積 ,  プロセス最適化 ,  モデル化 ,  研究