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J-GLOBAL ID：201702278752263587   整理番号：17A0470105

ナノスケールシフトレーザスポットの相変化を利用した正確なサブミクロンエッジ検出【Powered by NICT】

Accurate submicron edge detection using the phase change of a nano-scale shifting laser spot

著者 (7件)： Hai Hoang Hong (Department of Mechatronics, School of Mechanical Engineering, Hanoi University of Science & Technology, No. 1 Dai Co Viet Road, Hanoi, Vietnam) ,  Chen Liang-Chia (Department of Mechatronics, School of Mechanical Engineering, Hanoi University of Science & Technology, No. 1 Dai Co Viet Road, Hanoi, Vietnam) ,  Chen Liang-Chia (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University, 1, Sec. 4, Roosevelt Road, Taipei 10617, Taiwan) ,  Nguyen Duc Trung (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University, 1, Sec. 4, Roosevelt Road, Taipei 10617, Taiwan) ,  Lin Shyh-Tsong (Graduate Institute of Electro-Optical Engineering, National Taipei University of Technology, 1, Sec. 3, Zhongxiao E. Rd., Taipei 10608, Taiwan) ,  Yeh Sheng Lih (Department of Mechanical Engineering, Lunghwa University of Science and Technology,, No.300, Sec.1, Wanshou Rd., Guishan District, Taoyuan City 33306, Taiwan) ,  Yao Ying (Department of Mechanical Engineering, National Taiwan University, 1, Sec. 4, Roosevelt Road, Taipei 10617, Taiwan)
資料名： Optics & Laser Technology  (Optics & Laser Technology)
巻： 92  ページ： 109-119  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0245B  ISSN： 0030-3992  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 横方向超解像を用いた正確なエッジ検出は光回折限界により課された障壁のため光学的測定において重要な課題となっている。本研究では,Fresnel-Kirchhoffのスカラ回折理論を適用する回折モデルをエッジ位置に沿った位相分散と分布をシミュレートするために開発される。エッジ位置は表面ステップ高さジャンプを用いた端部に発生する相変化に基づいて検出した。光回折限界を超えた正確なエッジ位置を検出するために,ナノ位置決めステージはナノスケールの単エッジとマルチエッジサブミクロン格子の超急峻なエッジを走査するために使用されており,位相分布を測定した。モデルシミュレーションは,端の位相シフト現象を確認した。いくつかの十nmのピッチを持つ走査有限ステップを用いた場合,エッジを検出する空間的に開発した位相シフト検出アルゴリズム。180nm偏差は検出端のステップ高さが変化するときの検出中に起こることができるかまたは検出レーザスポットは一つ以上のエッジをカバーしている。予備実験結果は,格子のサブミクロン線幅のエッジ検出のための,光学位相差検出測定の標準偏差は38nmであることを示した。この技術はマイクロ格子測定に対する光学的超解像を達成するために実現可能な手段を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 位相 ,  *エッジ検出 ,  スカラー ,  表面ステップ ,  超解像 ,  標準偏差 ,  位相シフト ,  *相転移 ,  回折格子
準シソーラス用語： 位相差 ,  線幅 ,  検出アルゴリズム ,  位相分布 ,  *ナノスケール ,  回折限界 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 焦点プローブ ,  ナノ位置決めステージ ,  超解像 ,  エッジ検出 ,  回折格子 ,  ステップ高さ ,  線幅

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (3件)： 相変化 ,  サブ ,  エッジ検出