酸化物単結晶基板上に成膜したCr<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の結晶性向上のための成長条件探索

榎本翼; 福井慎二郎; 平戸剛志; 小野寺巧; 永田知子; 山本寛; 岩田展幸

文献

J-GLOBAL ID：201702280022539087 整理番号：17A1696307

酸化物単結晶基板上に成膜したCr₂O₃薄膜の結晶性向上のための成長条件探索

Investigation for Improvement of Crystalline Quality of Cr₂O₃ Thin Film Deposited on Oxide Single Crystal Substrates

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資料名：
巻： 117 号： 224(CPM2017 59-66) ページ： 11-14 発行年： 2017年09月27日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

r面サファイア及びYAlO₃基板上にCr₂O₃,(Cr_0.98Fe_0.02)₂O₃,(Cr_0.50Fe_0.50)₂O₃薄膜を作製した。r面サファイア基板上に成膜した(Cr_0.98Fe_0.02)₂O₃,(Cr_0.50Fe_0.50)₂O₃薄膜は強い一軸異方性を持って成長した。またYAlO₃上に成膜した(Cr_0.98Fe_0.02)₂O₃薄膜のグレインはFeドープなしのCr₂O₃と比べ約4倍大きくなり,溝が50%以下に抑制された。また2θ-θパターンよりYAlO₃上に成膜した(Cr_0.98Fe_0.02)₂O₃薄膜では面直格子間隔がほぼCr₂O₃と変わらなかったが,(Cr_0.50Fe_0.50)₂O₃では0.367nmと1.1%大きくなった。(著者抄録)

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酸化物薄膜

引用文献 (5件)：

X.Chen et al., Appl. Phys. Lett. 89(2006)202508
Ch. Binek, et al. J. Magn. Magn. Mater. 234(2001)353.
M. Fiebig: J. Phys. D 38(2005) R123.
T. Kuroda, et al., Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 37(2012)385.
R.Diehl and G. Brandt,Mat.Res.Bull.10(1975)85.

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