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J-GLOBAL ID：201702280157792996   整理番号：17A1716955

SrRuO_3エピタキシャル薄膜の成長モードに及ぼすex-situ原子間力顕微鏡観察【Powered by NICT】

Ex-situ atomic force microscopy on the growth mode of SrRuO₃ epitaxial thin film

著者 (5件)： Kim Bora (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), Suwon, 16419, Republic of Korea) ,  Lee Sang A (Department of Physics, Sungkyunkwan University (SKKU), Suwon, 16419, Republic of Korea) ,  Seol Daehee (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), Suwon, 16419, Republic of Korea) ,  Choi Woo Seok (Department of Physics, Sungkyunkwan University (SKKU), Suwon, 16419, Republic of Korea) ,  Kim Yunseok (School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), Suwon, 16419, Republic of Korea)
資料名： Current Applied Physics  (Current Applied Physics)
巻： 17  号： 12  ページ： 1721-1726  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1579A  ISSN： 1567-1739  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ペロブスカイト酸化物に基づくデバイスの機能特性はヘテロ構造薄膜の表面形態と微細構造を劇的に影響する成長モードに強く依存した。原子的に平坦な表面形態,通常高品質素子の必要性を達成するために,ヘテロエピタキシャル薄膜の成長機構の理解が不可欠である。本研究では,パルスレーザエピタクシーとex situ原子間力顕微鏡の間欠的成長方式を用いたSrRuO_3のヘテロエピタキシャル成長動力学を調べた。最初の単位セル層の堆積中の表面粗さの二つの重要な変化を原子間力顕微鏡第一単位セルの完全形成前SrRuO_3の半単位格子の形成の可能性を示しから観察された。さらに,SrRuO_3薄膜の最初の二単位格子層堆積中の支配的layer-by-layer成長モード。著者らの観察は,薄膜の初期成長の間のSrTiO_3基板上のヘテロエピタキシャルSrRuO_3薄膜の基本的な成長機構を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 微細構造 ,  酸化物 ,  *薄膜 ,  *エピタクシー ,  *原子間力顕微鏡
準シソーラス用語： 初期成長 ,  単位格子 ,  成長メカニズム ,  高品質 ,  表面形態 ,  ヘテロ構造 ,  機能特性 ,  *原子間力顕微鏡法 ,  *成長モード , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： SrRuO_3 ,  成長速度論 ,  原子間力顕微鏡観察

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  成長モード ,  原子間力顕微鏡観察