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J-GLOBAL ID：201702280417173555   整理番号：17A0547697

水素ラジカルを用いたレジスト除去における除去速度の圧力依存性

著者 (8件)： 城井智弘 (香川高専) ,  山本雅史 (香川高専) ,  長岡史郎 (香川高専) ,  鹿間共一 (香川高専) ,  梅本宏信 (静大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  西山聖 (大阪市大) ,  堀邊英夫 (大阪市大)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.14p-316-5  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2436-7613  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ラジカル ,  水素 ,  *圧力効果 ,  速度 ,  *レジスト ,  水素ラジカル
準シソーラス用語： 圧力依存性 ,  除去速度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水素ラジカル ,  レジスト ,  除去速度 ,  圧力依存性