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J-GLOBAL ID：201702281843876195   整理番号：17A1671916

直流/高周波カップリング反応性マグネトロンスパッタリング法によるダイヤモンド薄膜の調製と分析を行った。【JST・京大機械翻訳】

Investigation of diamond like carbon thin film deposited by coupling DC/RF reactive magnetron sputtering

著者 (6件)： Liu Lei (西南科技大学 材料科学与工程学院,四川 綿陽 621010; 中国工程物理研究院 激光聚変研究中心,四川 綿陽 621900) ,  Wang Tao (中国工程物理研究院 激光聚変研究中心,四川 綿陽,621900) ,  He Zhibing (中国工程物理研究院 激光聚変研究中心,四川 綿陽,621900) ,  Zhang Ling (中国工程物理研究院 激光聚変研究中心,四川 綿陽,621900) ,  Yi Yong (西南科技大学 材料科学与工程学院,四川 綿陽,621010) ,  Du Kai (西南科技大学 材料科学与工程学院,四川 綿陽 621010; 中国工程物理研究院 激光聚変研究中心,四川 綿陽 621900)
資料名： Gongneng Cailiao  (Gongneng Cailiao)
巻： 48  号： 1  ページ： 1209-1214  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2095A  ISSN： 1001-9731  CODEN： GOCAEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 直流(RF)カップリング反応性マグネトロンスパッタリングにより,Si(111)基板上に,高純度黒鉛ターゲットを用いて,ダイヤモンド(DLC)薄膜を調製した。膜の特性を,表面プロファイラ,レーザRaman分光法,Fourier変換赤外分光法,X線光電子分光法,走査電子顕微鏡,白色光干渉計,およびナノインデンテーションによって特性評価した。蒸着速度,構造,表面形態,および機械的性質に及ぼす種々の作業圧力(0.35~1.25Pa)の影響を研究した。その結果,蒸着圧力が増加すると,蒸着速度は徐々に減少し,膜中のsp3含有量は最初に増加し,次に減少することが分かった。膜の表面粗さは,最初に減少して,次に増加する傾向を示して,1.0Paにおける最小値は6.68nmに達することができた。作業圧力の増加に伴い,膜の微小硬さと弾性係数は最初に増加し,次に減少し,1.0Paでそれぞれ最大値11.6と120.7GPaに達したことが示されたが,それは,圧力が1.0Paのときに減少したことを示している。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 蒸着 ,  *薄膜 ,  *直流 ,  X線光電子分光法 ,  微小硬さ ,  走査電子顕微鏡 ,  弾性係数 ,  ナノインデンテーション ,  *ダイヤモンド ,  X線光電子スペクトル ,  キャラクタリゼーション ,  Raman分光法
準シソーラス用語： 表面形態 ,  蒸着速度 ,  *ダイヤモンド膜 ,  *反応性マグネトロンスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： coupling reactive magnetron sputtering ,  diamond like carbon ,  work pressure

分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (7件)： 直流 ,  高周波 ,  カップリング ,  反応性マグネトロンスパッタリング ,  ダイヤモンド薄膜 ,  調製 ,  分析