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J-GLOBAL ID：201702282846218318   整理番号：17A0907216

構造,非晶質Ge_2Sb_2Te_5膜の機械的及び光学的性質に及ぼすイオン衝撃と窒素取込の併用効果【Powered by NICT】

Combined effect of ion bombardment and nitrogen incorporation on structure, mechanical and optical properties of amorphous Ge₂Sb₂Te₅ films

著者 (8件)： Liu Zhuan (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Superhard Materials, Key Laboratory of Automobile Materials of MOE, Jilin University, Changchun 130012, China) ,  Huang Fei (Department of Orthopedics, China-Japan Union Hospital of Jilin University, Changchun, Jilin 130033, China) ,  Huang Haihua (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Superhard Materials, Key Laboratory of Automobile Materials of MOE, Jilin University, Changchun 130012, China) ,  Zhang Sam (School of Mechanical and Aerospace Engineering, Nanyang Technological University, 50 Nanyang Avenue, Singapore 639798, Singapore) ,  Zhang Kan (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Superhard Materials, Key Laboratory of Automobile Materials of MOE, Jilin University, Changchun 130012, China) ,  Zheng Weitao (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Superhard Materials, Key Laboratory of Automobile Materials of MOE, Jilin University, Changchun 130012, China) ,  Zheng Weitao (State Key Laboratory of Automotive Simulation and Control, Jilin University, Changchun 130025, China) ,  Hu Chaoquan (School of Materials Science and Engineering, State Key Laboratory of Superhard Materials, Key Laboratory of Automobile Materials of MOE, Jilin University, Changchun 130012, China)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 141  ページ： 32-40  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質Ge_2Sb_2Te_5膜の構造,機械的および光学的性質が,多くの実用的な応用に非常に重要であるが,これらの特性を制御し,改善する方法はまだ十分に解明されていない。ここでは,イオン衝撃と窒素取込は非晶質Ge_2Sb_2Te_5膜の構造,硬度およびUrbachテール幅(E)に有意な影響を及ぼすことを見出した。内在する物理的機構を実験と理論計算の組み合わせにより明らかにした。イオン照射は非晶質Ge_2Sb_2Te_5膜の結晶化を引き起こすが,窒素取込は再び非晶質膜と結晶膜からの転移を誘起し,窒素組み込みが強いGe-N結合の形成,結晶化活性化エネルギーを増加させるを与えるからである。イオン衝撃は膜の硬度を18.5%改善し,窒素取込は,硬さを39.2%向上させ得る。イオン衝撃と窒素取込,両者は膜のEを有意に変化させ,これは以前に報告されていない。基になる機構は,イオン衝撃は膜と窒素取込誘電係数の減少を引き起こすの無秩序の変化を引き起こすことである。,イオン衝撃と窒素取込の組合せは非晶質Ge_2Sb_2Te_5膜の結晶化,硬度とE,構造と特性を改善するための新しい研究戦略を細かく制御できる。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶 ,  *窒素 ,  イオン照射 ,  *非晶質 ,  活性化エネルギー ,  *併用効果 ,  結晶化 ,  *光学的性質 ,  硬度 ,  *イオン衝突
準シソーラス用語： 非晶質膜 ,  理論計算 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 相変化物質 ,  構造 ,  機械的性質 ,  光学的性質

分類 (2件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 非晶質 ,  光学的性質 ,  イオン衝撃 ,  窒素 ,  取込 ,  併用効果