文献
J-GLOBAL ID:201702282971305219   整理番号:17A1544947

電界p-GaNゲートを持つGaNベース電力H EMTの電流駆動分解:Mgドーピングレベルへの依存性【Powered by NICT】

Field- and current-driven degradation of GaN-based power HEMTs with p-GaN gate: Dependence on Mg-doping level
著者 (10件):
資料名:
巻: 76-77  ページ: 298-303  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0530A  ISSN: 0026-2714  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本論文で著者らは順方向ゲートバイアスでストレスを受けたp-GaNゲートを持つGaN-HEMTの劣化を調べた。定電圧ストレスと短パルス応力の両方(TLP,伝送線パルスにより誘起された)の影響を検討した;三種類のMgドーピングレベル(2.110~19/cm~3から2.910~19/cm~3の範囲)を持つデバイスは,研究に使用した。は二つの異なる分解機構の存在を示し,ストレス条件に依存して(i)TLPストレス(振幅の増加と共に100nsパルス)を適用した場合,ゲートが正電圧であるときに破壊が場に駆動された過程,すなわち金属/p-GaN Schottky接合の破壊,逆バイアスにより生じた。破壊電圧はMgドーピングの増加とともに減少し,高いアクセプタ準位は,より高い電場をもたらすからである。(ii)逆に,定電圧ストレス中の,長期安定性は,電流駆動プロセス,すなわちp-GaN/AlGaN界面での正電荷の蓄積,漏れ電流の増加を促進するによる弱体化させ,最初の緩やかな,破局的である。p-GaN中のMg濃度を増加させるのは,高い順方向ゲートバイアスでゲート漏れ電流の減少をもたらした。結果として,より高いMgドーピングを持つデバイスは長いTTF(低いMgをドープした試料に比べて二桁以上の大きさ)を有していた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
トランジスタ 

前のページに戻る