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J-GLOBAL ID:201702284452621714   整理番号:17A1421035

プラズマ化学蒸着で作製したsilicon/nitrogen組み込みダイヤモンド状炭素膜の特性に及ぼす原料ガスの影響【Powered by NICT】

Effects of source gases on the properties of silicon/nitrogen-incorporated diamond-like carbon films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
著者 (6件):
資料名:
巻: 636  ページ: 177-182  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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SiとN源としてジメチルシラン[SiH_2(CH_3)2;DMS]とN_2を用いたプラズマ増強化学蒸着によるsilicon/nitrogen組み込みダイヤモンド状炭素(Si N DLC)膜を蒸着した。Si/N単一源としてヘキサメチルジシラザン[((CH_3)3Si)2NH,HMDS]を用いて調製した膜のそれとSi-N-DLC膜の特性を比較した。N_2流量比6.81%,HMDS流量比[HMDS/(HMDS+CH_4)]2.27%で堆積したSi-N-DLC(HMDS)膜で作製したSi-N-DLC(DMS+N_2)膜間のSiとN画分の相違はわずかであった。Si-N-DLC(DMS+N_2)膜の内部応力はSi-N-DLC(HMDS)膜のそれと比較して低下したことが分かった。Si-N-DLC膜は,純粋なDLC膜よりもはるかに高い付着強度を示した。Si-N-DLC(DMS+N_2)膜をSi-N-DLC(HMDS)膜よりも,より低い摩擦及びより高い摩耗抵抗を有することを見出した。Si-N-DLC(DMS+N_2)膜の摩耗速度は純DLC膜のそれとほとんど同じくらい低かった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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その他の無機化合物の薄膜 
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