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J-GLOBAL ID：201702285233289195   整理番号：17A0399039

化学的機械的平坦化系を研究するための電気化学的インピーダンス分光法を用いるための実験的考察【Powered by NICT】

Experimental considerations for using electrochemical impedance spectroscopy to study chemical mechanical planarization systems

著者 (3件)： Turk M.C. (Department of Physics, Clarkson University, Potsdam, NY 13699-5820, USA) ,  Walters M.J. (Department of Physics, Plattsburgh State University of New York, Plattsburgh, NY 12901, USA) ,  Roy D. (Department of Physics, Clarkson University, Potsdam, NY 13699-5820, USA)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 224  ページ： 355-368  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学機械平坦化(CMP)は,マイクロエレクトロニクスデバイスの作製に使用されている。この技術の表面化学は,サブ22nm技術ノードの出現と非常に複雑になってきた。これはCMPのスラリー工学の分野における新しい挑戦を導入しているが,ある種の電気分析法は,CMPスラリー化学の評価のための有用なツールとして認識されている。これに関連して,界面動力学の強力なプローブ,電気化学インピーダンス分光法(EIS)は,新しいスラリー製剤の開発/評価を支援するユニークな役割を果たすことができる。CMP研究におけるEISのこの能力を完全に調べるために,平坦化の機械的成分に関連していることをEISの実験的要求と制約に対処する必要がある。本研究では,Cuのための探索的CMP法を用いたこの問題の分析的側面に焦点を当てた。CMPの表面反応はH_2O_2(酸化剤),硝酸グアニジン(錯化剤),およびコロイドSiO_2(研磨剤)のアルカリスラリー中のトライボロジー制御ボルタンメトリーと開回路電位により特性化した。典型的なCMPシステムのためのEISの検証基準をチェックするために実証した実験プロトコル。EISデータは,複雑な非線形最小二乗計算によって解析し,得られたパラメータは,CMPの反応機構を裏付けるために使用した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ボルタンメトリー ,  表面反応 ,  *電気化学 ,  界面化学 ,  電極電位 ,  硝酸 ,  *電気化学インピーダンス ,  コロイド ,  反応機構 ,  銅 ,  *化学機械研磨 ,  電解分析 ,  研磨剤 ,  界面 ,  トライボロジー ,  最小二乗法

著者キーワード (5件)： CMP ,  EIS ,  開路電位 ,  -腐食 ,  voltammetry

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学的機械的平坦化 ,  研究 ,  電気化学 ,  インピーダンス分光法 ,  実験