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J-GLOBAL ID：201702285939554642   整理番号：17A0341707

原子論的シミュレーションを用いたインプリントNiAlアモルファス膜の機械力学とパターン転写

Mechanics and Pattern Transfer of Imprinted NiAl Amorphous Films Investigated Using Atomistic Simulation

著者 (4件)： WU Cheng-Da (Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN) ,  FANG Te-Hua (National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN) ,  MING-HONG-LIN (National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN) ,  SU Jih-Kai (National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN)
資料名： Current Nanoscience  (Current Nanoscience)
巻： 13  号： 2  ページ： 215-220  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2347A  ISSN： 1573-4137  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 不明 (ARE)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *計算機シミュレーション ,  *膜 ,  力学 ,  *パターン転写 ,  非晶質金属 ,  分子動力学 ,  押付成形 ,  剪断歪
準シソーラス用語： アモルファス金属 ,  *アモルファス膜 ,  ナノインプリント ,  機械力学 ,  *原子論的シミュレーション

分類 (3件)： 計算機シミュレーション  (JE11000H) ,  プレス加工  (WC04050H) ,  非晶質金属の構造  (BK04020D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子論的シミュレーション ,  アモルファス膜 ,  機械力学 ,  パターン転写