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J-GLOBAL ID:201702286304970393   整理番号:17A1359836

IoTノーマリオフCPU応用のための超低漏れのある結晶In-Ga-Zn-O材料とトランジスタの性能を向上【Powered by NICT】

Performance boost of crystalline In-Ga-Zn-O material and transistor with extremely low leakage for IoT normally-off CPU application
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資料名:
巻: 2017  号: VLSI Circuits  ページ: T166-T167  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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世界最初の100MHz動的酸化物半導体RAM(DOSRAM)は新しい高移動度結晶In-Ga-Zn-O(IGZO)材料を用いて実証することに成功した。新しいIGZOは約二時間従来IGZOのキャリア移動度を示し,~10~ 21A(zA)レベルで非常に低い漏れ電流密度(I_off)を達成する。DOSRAM性能改善に起因して,100MHzノーマリオフ(Noff)CPUは劇的に低減した電力消費(ARM皮質M0の~94%電力低減と記憶のための~70%電力削減)を示し,IoTの応用のための有望な候補とすることに成功した。添加では,OS FPGAは動作周波数360MHzの65nm SiFETと60nm酸化物半導体FET(OSFET)の統合による作製に成功した。アナログ回路におけるOSFETの応用についても本論文で議論する。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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トランジスタ 

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