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J-GLOBAL ID：201702286339086426   整理番号：17A1358134

プラズマ再重合を用いて生成されたナノワイヤ森林の光学的特徴【Powered by NICT】

Optical features of nanowire forests generated using plasma repolymerization

著者 (7件)： Yang Y.D. (Key Laboratory for Electronic Measurement Technology North University of China, Taiyuan 030051, China) ,  Mao H.Y. (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China) ,  Xiong J.J. (Key Laboratory for Electronic Measurement Technology North University of China, Taiyuan 030051, China) ,  Jia Y.C. (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China) ,  Li R.R. (Key Laboratory for Electronic Measurement Technology North University of China, Taiyuan 030051, China) ,  Ming A.J. (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China) ,  Wang W.B. (Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100029, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： NEMS  ページ： 452-455  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ナノワイヤ森林はプラズマ重合法を用いて作製した。作製工程中にポリイミドのスピンコーティングとポリマのプラズマ衝撃のみを含み,全プロセスであるリソグラフィー,微細加工適合と余分な簡単である。に加えて,ナノワイヤフォレストは,ナノピラーナノワイヤ複合林のための反応性イオンエッチングにおけるマスクとして利用できる。異なる波長領域におけるナノワイヤ森林とナノピラーナノワイヤ複合林の光学的特徴を調べた。可視光範囲でナノワイヤフォレストの高transraittanceは透明なデバイスの森林の応用を意味している。8~10μmの範囲で特別な吸収ピークを有する複合林は特異物質センシングのための赤外デバイスにおけるナノフォレストの広範な応用を意味している。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ナノワイヤ ,  重合体 ,  RIE【エッチング】 ,  プラズマ重合 ,  衝撃 ,  *プラズマ ,  ポリイミド ,  リソグラフィー ,  *重合 ,  可視光 ,  スピンコーティング ,  微細加工
準シソーラス用語： ナノフォレスト ,  波長領域 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマ ,  重合 ,  ナノワイヤ ,  森林 ,  光学的特徴