Department of Electrical Engineering, Katholieke Universiteit, Leuven, Belgium について
Schaekers Marc について
imec, Leuven, Belgium について
Peter Anthony について
imec, Leuven, Belgium について
Pourtois Geoffrey について
imec, Leuven, Belgium について
Rosseel Erik について
imec, Leuven, Belgium について
Lee Joon-Gon について
Samsung, Seoul, South Korea について
Song Woo-Bin について
Samsung, Seoul, South Korea について
Shin Keo Myoung について
Samsung, Seoul, South Korea について
Everaert Jean-Luc について
imec, Leuven, Belgium について
Chew Soon Aik について
imec, Leuven, Belgium について
Demuynck Steven について
imec, Leuven, Belgium について
Kim Daeyong について
Samsung, Seoul, South Korea について
Barla Kathy について
imec, Leuven, Belgium について
Mocuta Anda について
imec, Leuven, Belgium について
Horiguchi Naoto について
imec, Leuven, Belgium について
Thean Aaron Voon-Yew について
imec, Leuven, Belgium について
Collaert Nadine について
imec, Leuven, Belgium について
De Meyer Kristin について
Department of Electrical Engineering, Katholieke Universiteit, Leuven, Belgium について
IEEE Transactions on Electron Devices について
接触抵抗 について
電気抵抗率 について
ケイ化物 について
チタン化合物 について
CMOS について
アモルファス化 について
キャリア注入 について
ソース【半導体】 について
ドレイン【半導体】 について
半導体金属接合 について
ケイ素 について
P型半導体 について
キャラクタリゼーション について
Schottky障壁 について
非晶質合金 について
ナノ構造 について
リン について
ドーピング について
ケイ化チタン について
サーマルバジェット について
半導体集積回路 について
コンタクト について
アモルファス化 について
注入処理 について
Si について
ケイ化チタン について
接触抵抗 について