文献

J-GLOBAL ID：201702286550215994   整理番号：17A1033086

高周波で動作する相互接続における表皮および近接効果のための新しい解析的方程式【Powered by NICT】

New analytical equations for skin and proximity effects in interconnects operated at high frequency

著者 (4件)： Zhang Haojun (Reliability Engineering, GLOBALFOUNDRIES Inc., Malta, New York USA) ,  Lee Jian-Hsing (Reliability Engineering, GLOBALFOUNDRIES Inc., Malta, New York USA) ,  Iyer Natarajan Mahadeva (Reliability Engineering, GLOBALFOUNDRIES Inc., Malta, New York USA) ,  Cao Linjun (Reliability Engineering, GLOBALFOUNDRIES Inc., Malta, New York USA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： EDTM  ページ： 39-41  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 初めて,表皮効果と近接効果のための解析的方程式を高周波信号を受ける先端的CMOS技術相互接続における電流分布を記述することを導いた。解析解は,相互接続の形状と運転周波数の関数としての皮膚深さを評価するシミュレーションと一致した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 表皮効果 ,  周波数 ,  *HF【周波数】 ,  *相互接続 ,  電流分布 ,  *近接効果 ,  解析的解法
準シソーラス用語： CMOS技術 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 電線・ケーブル  (NA05020S) ,  電磁気学一般  (BD01020N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高周波 ,  相互接続 ,  表皮 ,  近接効果 ,  解析 ,  方程式