文献

J-GLOBAL ID：201702286659495209   整理番号：17A0443073

準単分散β-SiCナノ粒子:合成と応用化学的-機械的研磨【Powered by NICT】

Quasi-monodisperse β-SiC nanospheres: Synthesis and application in chemical-mechanical polishing

著者 (1件)： Zhang Meng (School of Materials Science and Engineering, Henan University of Technology, Zhengzhou 450007, China)
資料名： Journal of Physics and Chemistry of Solids  (Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 103  ページ： 1-5  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0202A  ISSN： 0022-3697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 180°Cでヘキサンと水混合溶媒中で準単分散炭化ケイ素(β SiC)ナノスフェアを合成するために提示されている複合界面活性剤支援混合ソルボサーマル経路ヘキサン/水比を変えることにより,β-SiCナノスフェアのサイズを効果的に調整することができる。球状形状とほぼ均一なサイズから利益,準単分散β-SiCナノ球は優れた平坦化能力と材料除去速度を示した。例としてシリコンウエハ研磨を,不規則なβ-SiCナノ粒子と比較して,準単分散β-SiCナノスフェアは表面粗さを減少させる50 74%除去速度を増加させる17 30%であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *研磨 ,  界面活性剤 ,  *炭化ケイ素 ,  アルカン
準シソーラス用語： 除去速度 ,  シリコンウエハ ,  材料除去 ,  平坦化 ,  ナノボール ,  混合溶媒 ,  *単分散 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 炭化けい素 ,  Nanospheres ,  化学-機械研磨 ,  混合ソルボサーマル ,  方法

分類 (4件)： 金属系の相平衡・状態図  (CB03012T) ,  非線形光学  (BD05000T) ,  分子化合物  (CE02000C) ,  固相転移  (BL04020G)

物質索引 (1件)： ヘキサン

タイトルに関連する用語 (5件)： 単分散 ,  SiC ,  ナノ粒子 ,  応用化学 ,  機械的研磨