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J-GLOBAL ID:201702286741744042   整理番号:17A0471253

Cr薄膜の酸化による干渉パターンのピコ秒レーザ記録【Powered by NICT】

Picosecond laser registration of interference pattern by oxidation of thin Cr films
著者 (7件):
資料名:
巻: 404  ページ: 63-66  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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金属薄膜とそれに続く選択化学エッチングのレーザ酸化をガラス基板上に二元金属構造の形成のための有望な方法である。単一超短レーザパルス照射熱化学画像をインプリントすることを可能にする保護酸化物層を形成することができることを確認することが重要である。化学エッチングと組み合わせた二と四ビーム干渉を利用したピコ秒レーザパルスを照射したクロム薄膜の熱化学処理の結果を提示した。この方法の空間分解能は熱化学的先鋭化により十分に高いことができ,回折限界に近いことができる。顕微Raman分光法は,クロム薄膜の表面上の大気条件下で形成された保護酸化物層の化学組成の特性化に適用した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 

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