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J-GLOBAL ID:201702286949163938   整理番号:17A1619628

長寿命アーカイブメモリのための金属-酸化物-窒化物-酸化物-半導体メモリの可能性

Possibility of Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Semiconductor Memories for Long Lifespan Archive Memories
著者 (7件):
資料名:
巻: E100.C  号: 10  ページ: 928-933(J-STAGE)  発行年: 2017年 
JST資料番号: U0468A  ISSN: 1745-1353  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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ab initio計算に基づいて金属-酸化物-窒化物-酸化物-半導体(MONOS)メモリが最も有望な将来の高密度アーカイブメモリの1つであることを実証した。MONOSメモリのO関連欠陥が,プログラム/消去(P/E)サイクル中に原子レベルでSiO2/Si3N4界面に不可逆的な構造変化を引き起こすことを見出した。この構造中の全てのO原子は3重配位をとるので,プログラミング動作中のキャリア注入はその構造をエネルギー的に非常に安定にした。プログラム状態の推定寿命は,1000年のオーダである。(翻訳著者抄録)
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著者キーワード (4件):
分類 (2件):
分類
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半導体集積回路  ,  記憶装置 
引用文献 (25件):
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