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J-GLOBAL ID：201702286987280123   整理番号：17A0210440

環境走査電子顕微鏡におけるマスクレス,高精度,持続性,極端な濡れコントラストパターニング

Maskless, High-Precision, Persistent, and Extreme Wetting-Contrast Patterning in an Environmental Scanning Electron Microscope

著者 (5件)： Liimatainen Ville (Department of Electrical Engineering and Automation, School of Electrical Engineering, Aalto University, Otaniementie 17, Espoo, 02150, Finland) ,  Shah Ali (Department of Micro- and Nanosciences, School of Electrical Engineering, Aalto University, Otaniementie 17, Espoo, 02150, Finland) ,  Johansson Leena-Sisko (Department of Forest Products Technology, School of Chemical Technology, Aalto University, Otaniementie 17, Espoo, 02150, Finland) ,  Houbenov Nikolay (Department of Applied Physics, School of Science, Aalto University, Otaniementie 17, Espoo, 02150, Finland) ,  Zhou Quan (Department of Electrical Engineering and Automation, School of Electrical Engineering, Aalto University, Otaniementie 17, Espoo, 02150, Finland)
資料名： Small  (Small)
巻： 12  号： 14  ページ： 1847-1853  発行年： 2016年04月13日 
JST資料番号： W2348A  ISSN： 1613-6810  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 環境走査電子顕微鏡(ESEM)を用いて152°の接触角コントラストを有する高精度の超親水性超疎水性ウェッティングパターンを作製するためのマスクレスおよびプログラム可能な直接電子ビーム描画法を報告した。達成した最小の線幅は,1μm未満であった。電子ビーム誘起局所血漿の報告した効果は,また,ESEMにおける様々な顕微鏡湿潤試験に影響を及ぼすものである。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  *血漿 ,  電子ビーム ,  誘導 ,  プラズマ ,  顕微鏡 ,  湿潤試験 ,  コントラスト ,  *パターン形成 ,  親水性 ,  疎水性 ,  *環境走査電子顕微鏡 ,  超親水性 ,  超疎水性
準シソーラス用語： 誘起 ,  *パターンニング

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 環境走査電子顕微鏡 ,  マスクレス ,  持続性 ,  濡れ ,  コントラスト ,  パターニング