文献

J-GLOBAL ID：201702287735890154   整理番号：17A0908186

非晶質窒化炭素膜の微細構造と機械的性質に及ぼす陽極層線形イオン源の影響【Powered by NICT】

Effects of anode layer linear ion source on the microstructure and mechanical properties of amorphous carbon nitride films

著者 (8件)： Ye Peng (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Xu Feng (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Wu Jinxin (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Tian Shuai (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Zhao Xianrui (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Zhao Xianrui (College of Physics and Electronic Engineering, Zhejiang Provincial Key Laboratory for Cutting Tools, Taizhou University, Taizhou 318000, China) ,  Tang Xiaolong (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China) ,  Zuo Dunwen (College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 320  ページ： 183-189  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質窒化炭素(a-CN)膜の微細構造と機械的性質に及ぼすアノード層線形イオン源(ALLIS)の影響を研究するために,a-_膜はイオン源パワーを変えることから0~200W ALLIS支援無線周波数マグネトロンスパッタリング(RFMS)堆積条件によって堆積した。成長速度,構造形態,表面粗さ,ナノ硬度と同様に沈積されたa-CN_膜の結合状態を,走査型電子顕微鏡(SEM),原子間力顕微鏡(A FM),ナノインデンテーション,Raman分光法およびX線光電子分光法(XPS)によってそれぞれキャラクタリゼーションした。H/Eと硬度は100Wまでイオン源電力の増加と共に相対的に増加した。マイクロRaman解析から,.~3.~2比の.~3炭素の含有量はイオン源電力の増加と共に増加した。断面SEM画像は,イオン源はa-_膜の成長速度を高めることを示した。一方,粗さは100W以上のイオン源電力と共に増加した。最適イオン源パワーはこれらの実験条件で約100Wであると考えられている。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 電力 ,  *イオン源 ,  Raman分光法 ,  成長速度 ,  *微細構造 ,  走査電子顕微鏡 ,  *非晶質 ,  X線光電子分光法 ,  *機械的性質 ,  原子間力顕微鏡 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *窒化 ,  硬度 ,  ナノインデンテーション
準シソーラス用語： *窒化炭素 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： アノード層状線形イオン源 ,  非晶質窒化炭素膜 ,  RFMS ,  Microstructure ,  機械的性質

分類 (5件)： 金属の放射線による構造と物性の変化  (BK16122N) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 非晶質 ,  窒化 ,  炭素膜 ,  微細構造 ,  機械的性質 ,  陽極層 ,  線形 ,  イオン源