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J-GLOBAL ID:201702288116212897   整理番号:17A0751111

h-BN基底面上にエピタキシャル成長させた正確に配列した単分子層MoS_2【Powered by NICT】

Precisely Aligned Monolayer MoS2 Epitaxially Grown on h-BN basal Plane
著者 (35件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: ROMBUNNO.201603005  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2348A  ISSN: 1613-6810  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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六方晶窒化ホウ素(h BN)上の単分子層二硫化モリブデン(MoS_2)の正確な格子アラインメントの制御は,このヘテロ構造の基礎および応用研究の両方に重要であるが,不明である。低圧化学蒸着法によるh-BNの基底面上に正確に整列したMoS_2ドメインの成長を報告した。MoS_2とh-BN基底面の間の0°または60°の相対回転角のみが存在した。同一配向のドメインは単結晶,ステッチとミラー粒界から異なる方位をもつ分域stitchと形成する。このようにして,粒界が最小のみミラー結晶粒界を持つこれらの二つの形式の領域で縫合された連続膜が得られた。成長戦略は,他の2次元材料成長に適用可能である。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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