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J-GLOBAL ID：201702288654886375   整理番号：17A0386067

原子層堆積法による多孔質基板内部へのコンフォーマルコーティングに対する反応槽内圧力の影響

Effect of reactor pressure on the conformal coating inside porous substrates by atomic layer deposition

著者 (5件)： Poodt Paul (Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands) ,  Mameli Alfredo (Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands) ,  Schulpen Jeff (Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands) ,  Kessels W. M. M. (Erwin) (Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands) ,  Roozeboom Fred (Holst Centre/TNO, High Tech Campus 31, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands and Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, The Netherlands)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 2  ページ： 021502-021502-9  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層堆積法(ALD)は,多孔質基板に対するそのステップカバレージの良さで知られている。いくつかの進展しつつある応用では,この高ステップカバレージを空間方式ALDのような高スループットALDと結びつけることが求められている。しばしば,高スループットALDは大気圧で実施されるので,飽和ドーズ量に対する反応槽圧力の影響を調べた。多孔質基板内部へのALDは3つの主要なパラメータに支配される。すなわち,反応確率,孔のアスペクト比,前駆体の拡散係数である。このうち最後の1つが反応槽圧力に依存する。これらのパラメータの飽和ドーズ量への影響はモンテカルロ法を用いて確認した。そこでは,反応槽圧力依存性は平均自由行程を通じてもたらされる。反応律速と拡散律速の領域が識別でき,多くの現実的実験条件(低い反応槽圧力でも)では,飽和ドーズ量は拡散律速の領域にあることが示される。拡散律速領域での飽和ドーズ量の圧力依存性の表式を導出した。孔径が小さい時は飽和ドーズ量は圧力に依存しないが,孔径が大きい時は,反応槽圧力が大気圧の場合は低い圧力の場合にくらべ,高い飽和ドーズ量が要求される。しばしば,表面積の大きな多孔質基板では供給律速条件となり,飽和時間の増大を考慮する必要がある。この結果は,高い前駆体分圧と流量を利用できるかぎりは,大気圧ALDが多孔質基板内部への高スループットALDとして利用できることを示している。この点は,アルミナの大気圧の空間方式ALDで高アスペクト比の多孔質にて得られたほぼ100%のステップカバレージにより,実験的に確認される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *基板 ,  *多孔性 ,  被覆率 ,  *スループット ,  *圧力効果 ,  パラメータ ,  アスペクト比 ,  拡散係数 ,  モンテカルロ法 ,  拡散律速 ,  細孔径 ,  *被覆 ,  *アルミナ
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  ステップカバレッジ ,  *高スループット ,  コンフォーマルコーティング

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子層堆積法 ,  多孔質 ,  コンフォーマルコーティング ,  反応槽 ,  内圧力