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J-GLOBAL ID：201702288871712856   整理番号：17A0406436

Ti/W,Ti/Cr,Ti/Pt薄膜Iの特性化:表面形態とナノ機械的特性【Powered by NICT】

Characterization of Ti/W, Ti/Cr, and Ti/Pt thin films-part I: Surface morphologies and nano-mechanical properties

著者 (2件)： Kim Yongdae (Agency for Defense Development, P.O. Box 35, Yuseong, Daejeon, 34186, Republic of Korea) ,  Choi Hyun Young (Agency for Defense Development, P.O. Box 35, Yuseong, Daejeon, 34186, Republic of Korea)
資料名： Sensors and Actuators. A. Physical  (Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 254  ページ： 9-19  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0345C  ISSN： 0924-4247  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 物理的接触モードで動作するマイクロマシンデバイスなどに用いられるメタライゼーションは高い耐スクラッチ,耐摩耗性と高い機械的強度を持つべきである。,二部シリーズの第1部は,種々の温度でアニールしたTi/W,Ti/Cr,およびTi/Pt薄膜の表面形態,表面粗さ,電気的およびナノ機械的性質を研究した。絶縁層とTi接着層としてSiO_2は既に堆積したW,Cr,Pt膜をシリコン基板上に形成した。薄膜はN_2中で1時間400年,500年,および600°Cでアニールした。実験結果は,400°CでアニールしたTi/W膜は,比較的低い電気抵抗率と粗さ値と高い硬度と弾性率値を持つことを示した。Ti/Cr膜はアニーリング過程の間に容易に酸化し,高抵抗率と表面粗さ値を持っていた。Ti/Pt膜はアニーリングプロセス中の,Ti/Pt膜は,高温空気雰囲気中で動作するMEMSデバイスに用いることができることを示したで酸化されなかった。しかし,ヒロックが,アニーリングプロセス後に膜の表面から突出ことが分かったとして600°CでアニールしたTi/Pt膜は,メタライゼーションには使用できない。これは非常に粗い表面特徴をもたらし,耐摩耗性を減少させた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *チタン ,  硬度 ,  耐摩耗性 ,  *キャラクタリゼーション ,  MEMS ,  機械的強度 ,  メタライゼーション ,  焼なまし ,  電気抵抗率 ,  *薄膜
準シソーラス用語： ヒロック ,  シリコンウエハ ,  絶縁層 ,  スクラッチ ,  *表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ナノ圧子 ,  ナノ機械的特性 ,  ナノスクラッチング特性 ,  引かき抵抗 ,  薄膜のトライボロジー特性

分類 (2件)： 圧電デバイス  (NC03110I) ,  圧電気,焦電気,エレクトレット  (BM05040M)

タイトルに関連する用語 (7件)： Ti ,  Cr ,  Pt ,  薄膜 ,  特性化 ,  表面形態 ,  機械的特性