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J-GLOBAL ID：201702288924778748   整理番号：17A1457309

MeVエネルギーでの重イオンPIXEにおけるターゲット厚さの影響を補正するための方法【Powered by NICT】

A procedure to correct for target thickness effects in heavy-ion PIXE at MeV energies

著者 (4件)： Zucchiatti Alessandro (Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Galan Patricia (Centro de Micro Analisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Prieto Jose Emilio (Centro de Micro Analisis de Materiales (CMAM), Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain) ,  Prieto Jose Emilio (Dpto. de Fisica de la Materia Condensada, IFIMAC and Instituto “Nicolas Cabrera”, Universidad Autonoma de Madrid, 28049 Madrid, Spain)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 407  ページ： 1-4  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MeVエネルギーでの重イオンにより誘起されたX線放射の断面積の決定に適用されるターゲット厚さの影響を考慮するための補正係数を計算するための新しい方法を述べた。補正の起源を議論し,計算,理論的断面積とイオンエネルギー損失の両方の簡単な多項式フィットに基づいて記述した。法は容易に実装できる。断面積測定のための特別に作られた標的のセットとイオン型およびエネルギーの種々の組合せのためのいくつかの例を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 断面積 ,  *イオン ,  *重イオン ,  多項式
準シソーラス用語： イオンエネルギー ,  補正係数 ,  X線放射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 重イオン ,  PIXE ,  標的厚さの影響 ,  補正係数

分類 (1件)： チャネリング,ブロッキング,粒子のエネルギー損失  (BK16100J)

タイトルに関連する用語 (5件)： エネルギー ,  重イオン ,  PIXE ,  ターゲット ,  厚さ