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J-GLOBAL ID：201702289664094853   整理番号：17A0447273

LaドープNi/ZrO_2触媒上での電場における合成ガスを製造するためのメタンの低温ドライリフォーミング【Powered by NICT】

Low-temperature dry reforming of methane to produce syngas in an electric field over La-doped Ni/ZrO₂ catalysts

著者 (5件)： Yabe Tomohiro (Department of Advanced Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1, Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan) ,  Mitarai Kenta (Department of Advanced Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1, Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan) ,  Oshima Kazumasa (Department of Advanced Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1, Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan) ,  Ogo Shuhei (Department of Advanced Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1, Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan) ,  Sekine Yasushi (Department of Advanced Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1, Okubo, Shinjuku, Tokyo 169-8555, Japan)
資料名： Fuel Processing Technology  (Fuel Processing Technology)
巻： 158  ページ： 96-103  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0298B  ISSN： 0378-3820  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： メタンのドライ改質(DRM)は電場中での種々の遷移金属担持ZrO_2触媒上で行った。1wt%Ni/10mo1%La ZrO_2の触媒は,423Kの外部温度の,DRMは,従来の触媒系では進行しないでも高いDRM活性を示した。低い反応温度のために,少量のカーボン析出が電場の中の高いCH_4変換の条件でも確認された。課せられた電力は電場における触媒活性に相関していた。合成ガスは,低温高エネルギー効率で生産可能である。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 触媒活性 ,  *合成ガス ,  反応温度 ,  *ニッケル ,  エネルギー効率 ,  *触媒 ,  二酸化炭素 ,  *低温 ,  *ランタン ,  電力 ,  *電場 ,  遷移金属 ,  *ドーピング ,  アルカン
準シソーラス用語： 炭素析出 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： メタンの乾燥改質 ,  二酸化炭素利用 ,  電場 ,  低温触媒反応 ,  低炭素の析出

分類 (3件)： ガス化,ガス化プラント  (YE02040Q) ,  反応操作(単位反応)  (XE01040I) ,  触媒操作  (XE01050T)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (8件)： La ,  ドープ ,  Ni ,  触媒 ,  電場 ,  合成ガス ,  メタン ,  低温