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J-GLOBAL ID：201702290395493410   整理番号：17A1220865

プロトンマイクロビームを用いたポリ(ジメチルシロキサン)薄膜に埋め込まれたフレキシブルマッハツェンダ導波路構造の作製と評価

Fabrication and evaluation of flexible Mach-Zehnder waveguide structure embedded in a poly(dimethylsiloxane) thin film using a proton microbeam

著者 (14件)： KUMAR PARAJULI Raj (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  SARUYA Ryota (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  AKUTZU Naoki (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  MIURA Satoshi (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  KADA Wataru (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  KAWABATA Shunsuke (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  KAWABATA Shunsuke (Japan Atomic Energy Agency, Gunma, JPN) ,  MATSUBARA Yoshinori (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  SATOH Takahiro (Japan Atomic Energy Agency, Gunma, JPN) ,  KOKA Masashi (Japan Atomic Energy Agency, Gunma, JPN) ,  YAMADA Naoto (Japan Atomic Energy Agency, Gunma, JPN) ,  KAMIYA Tomihiro (Japan Atomic Energy Agency, Gunma, JPN) ,  MIURA Kenta (Gunma Univ., Gunma, JPN) ,  HANAIZUMI Osamu (Gunma Univ., Gunma, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 55  号： 6S1  ページ： 06GD01.1-06GD01.5  発行年： 2016年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,プロトンビーム書き込み(PBW)により,ポリ(ジメチルシロキサン)(PDMS)膜にフレキシブルマッハツェンダ(MZ)光導波路を作製した。集束された750keVの陽子マイクロビームを使用して,赤外線(IR)レーザー光の単一モード光伝播のためにPDMSフィルムに埋め込まれた幅8μmの40×20mm²MZ光導波路構造を作製した。構造は,イオンビーム誘起ルミネセンス(IBIL)分析によって測定し,ビームフルエンスは,導波路構造から得られたIBIL強度に従って最適化した。MZ導波路の構造全体は良好に機能し,異なるPDMS膜条件に対して調整可能なIRレーザ(1.55μm)を用いてニアフィールドパターン(NFP)を観察することによって確認された。異なるサンプル構成の光スループット測定値が,連続的な機械的ストレス下で得られ,比較的低い傾斜角16°で光損失が観測された。本研究の結果は,MZ導波路が連続的な機械的応力下で光インターリンク接続に使用できることを示唆している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *陽子ビーム ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *装置 ,  Mach-Zehnder干渉計 ,  光導波路 ,  *ルミネセンス ,  *伝送損失 ,  結合
準シソーラス用語： プロトンビーム ,  *フレキシブルデバイス ,  イオンルミネセンス ,  *光損失 ,  光結合

分類 (3件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  その他の光伝送素子  (BD06040S)

引用文献 (32件)：

• J. A. van Kan, P. Malar, and Y. H. Wang, Appl. Surf. Sci. 310, 100 (2014).
• F. Watt, A. A. Bettiol, J. A. van Kan, E. J. Teo, and M. B. H. Breese, Int. J. Nanosci. 4, 269 (2005).
• J. A. van Kan, J. L. Sanchez, B. Xu, T. Osipowicz, and F. Watt, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 158, 179 (1999).
• R. L. Seliger, R. L. Kubena, R. D. Olney, J. W. Ward, and V. Wang, J. Vac. Sci. Technol. 16, 1610 (1979).
• N. Uchiya, Y. Furuta, H. Nishikawa, T. Watanabe, J. Haga, T. Satoh, M. Oikawa, Y. Ishii, and T. Kamiya, Microsyst. Technol. 14, 1537 (2008).

タイトルに関連する用語 (6件)： プロトン ,  マイクロビーム ,  薄膜 ,  導波路 ,  作製 ,  評価