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J-GLOBAL ID：201702290530933893   整理番号：17A0641345

新しい『UV硬化材料』の設計,応用事例 極端紫外線(EUV)レジスト材料の超高感度,超高解像度に向けた分子設計

著者 (1件)： 工藤宏人 (関西大 化学生命工)
資料名： 月刊Material Stage  (マテリアルステージ)
巻： 16  号： 11  ページ： 59-65  発行年： 2017年02月10日 
JST資料番号： L5969A  ISSN： 1346-3926  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超高解像性レジストパターンの構築が求められる極端紫外線(EUV)レジスト材料の分子設計は,約10年以上前から検討されている。しかしながらEUV用レジスト材料の分子構造は,未だ確定されていない。ムーアの法則に従い,EUV用レジスト材料にパターンニング特性は,16nmノード以下の高解像性が求められる。16nmのパターン幅は,ほとんどの高分子の分子サイズよりも小さいことになり,必然的にオリゴマ程度の高分子材料が使用される。本稿では,カリックスアレーンタイプ,フェノール樹脂タイプ,フラーレンC60やNoriaを用いた特殊骨格タイプのオリゴマのEUV用レジスト材料の可能性について解説した。

シソーラス用語： *光重合型樹脂 ,  紫外線照射 ,  光架橋 ,  *極端紫外線 ,  回路パターン形成 ,  フォトリソグラフィー ,  *フォトレジスト ,  高分解能 ,  分子設計 ,  高感度 ,  カリックスアレーン ,  フェノール樹脂 ,  フラーレン ,  光酸発生剤 ,  ポリアセタール ,  フラーレンC60 ,  オリゴマ ,  大環状化合物 ,  はしご状重合体 ,  光重合 ,  脱保護基 ,  官能基保護
準シソーラス用語： *EUVレジスト ,  Noria ,  UV硬化 ,  *UV硬化型樹脂 ,  極端紫外線リソグラフィー ,  超高解像度

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

引用文献 (26件)：

• Review ; C. K. Ober, et al. Polym. Adv. Tech., 17, 94 (2006)
• M. Ueda, et al. J. Mater. Chem., 12, 53 (2002)
• H. Kudo and T. Nishikubo et al. Bulletin of the Chemical Society Japan, 77, 2109 (2004)
• H. Kudo, and T. Nishikubo, et al. Bulletin of the Chemical Society of Japan, 77, 819 (2004)
• C. K. Ober. Chem. Mater. 19, 3780 (2007)

タイトルに関連する用語 (9件)： UV硬化 ,  設計 ,  応用 ,  極端紫外線 ,  EUV ,  レジスト材料 ,  高感度 ,  高解像度 ,  分子設計