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J-GLOBAL ID：201702290561244632   整理番号：17A1421038

室温で反応性スパッタリングにより得られたTiO_2被覆:スパッタリング圧力と膜厚の関数としての物理的性質【Powered by NICT】

TiO₂ coatings obtained by reactive sputtering at room temperature: Physical properties as a function of the sputtering pressure and film thickness

著者 (2件)： Guillen C. (Dep. Energia (CIEMAT), Avda. Complutense 40, Madrid 28040, Spain) ,  Herrero J. (Dep. Energia (CIEMAT), Avda. Complutense 40, Madrid 28040, Spain)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 636  ページ： 193-199  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 結晶アナターゼ構造を持つTiO_2層は加熱していないガラス基板上に得られ,金属ターゲットからの反応性スパッタリングにより,膜表面に到達する粒子のエネルギーを変化させるためにスパッタリング圧力を使用している。このようなエネルギーとプラズマ曝露の時間も形態とスパッタ膜の他の物理的特性に影響した。堆積時間は0.24~1.08μmと0.2~1.0Paの種々の全圧力で異なる厚さをもつTiO_2コーティングを得るために範囲した。試料の全体的特性化をX線回折,原子間力顕微鏡,分光光度法により行われてきた。スパッタリング圧力と結晶構造(面間距離と平均結晶サイズ),形態(粗さと表面積)と同様に光学的性質(屈折率,消衰係数)に及ぼす膜厚の影響を確立した。光学的および形態学的特性の間の直接的関係,計算した膜多孔性が証明されている。そのような多孔性は,蒸着パラメータによって制御されているこれらは種々の応用に必要なスパッタTiO_2被覆の光学的および形態学的特性を調整可能にした。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *スパッタリング ,  多孔性 ,  吸光分光分析 ,  屈折率 ,  *膜厚 ,  *反応性スパッタリング ,  結晶 ,  プラズマ曝露 ,  *被覆 ,  モルフォロジー ,  原子間力顕微鏡 ,  アナターゼ ,  光学的性質 ,  形態
準シソーラス用語： 消衰係数 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 酸化チタン ,  反応性スパッタリング ,  膜多孔性 ,  表面積 ,  光学的性質

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 室温 ,  反応性スパッタリング ,  スパッタリング圧力 ,  膜厚 ,  関数 ,  物理的性質