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J-GLOBAL ID：201702295950268563   整理番号：17A0132732

原子層堆積法で成長させた酸化アルミ/酸化チタンのナノ積層体:成長と機械的性質

Aluminum oxide/titanium dioxide nanolaminates grown by atomic layer deposition: Growth and mechanical properties

著者 (13件)： Ylivaara Oili M. E. (VTT Technical Research Centre of Finland, P.O. Box 1000, FI-02044 VTT, Finland) ,  Kilpi Lauri (VTT Technical Research Centre of Finland, P.O. Box 1000, FI-02044 VTT, Finland) ,  Liu Xuwen (Department of Materials Science and Engineering, Aalto University School of Chemical Technology, P.O. Box 16200, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Sintonen Sakari (Department of Micro- and Nanosciences, Aalto University School of Electrical Engineering, P.O. Box 13500, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Ali Saima (Department of Micro- and Nanosciences, Aalto University School of Electrical Engineering, P.O. Box 13500, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Laitinen Mikko (Department of Physics, University of Jyvaeskylae, P.O. Box 35, FI-40014 Jyvaeskylae, Finland) ,  Julin Jaakko (Department of Physics, University of Jyvaeskylae, P.O. Box 35, FI-40014 Jyvaeskylae, Finland) ,  Haimi Eero (Department of Materials Science and Engineering, Aalto University School of Chemical Technology, P.O. Box 16200, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Sajavaara Timo (Department of Physics, University of Jyvaeskylae, P.O. Box 35, FI-40014 Jyvaeskylae, Finland) ,  Lipsanen Harri (Department of Micro- and Nanosciences, Aalto University School of Electrical Engineering, P.O. Box 13500, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Hannula Simo-Pekka (Department of Materials Science and Engineering, Aalto University School of Chemical Technology, P.O. Box 16200, FI-00076 Aalto, Finland) ,  Ronkainen Helena (VTT Technical Research Centre of Finland, P.O. Box 1000, FI-02044 VTT, Finland) ,  Puurunen Riikka L. (VTT Technical Research Centre of Finland, P.O. Box 1000, FI-02044 VTT, Finland)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 1  ページ： 01B105-01B105-13  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層堆積法(ALD)は,自己律速表面反応に基づいている。このことと循環プロセスであることにより,正確な膜厚制御と鋭い界面をもつコンフォーマルな薄膜の成長が可能になる。例えば微小電気機械システムにおいて,制御可能な電気的および光学的性質を活用するために,ALDを用いて多層薄膜(ナノ積層体)を成長させる。本研究では,シリコン上の酸化アルミニウム(Al₂O₃)と酸化チタン(TiO₂)とで構成されるALDナノ積層体の,残留応力・密着性・機械的性質の制御可能性を,成長温度(110-300°C),膜厚(20-300nm),二重層厚さ(0.1-100nm),TiO₂成分(0%-100%)を変えて検討した。Al₂O₃はMe₃AlとH₂Oから,TiO₂はTiCl₄とH₂Oから成長させる。ウェハ曲率測定によると,Al₂O₃/TiO₂ナノ積層体は引張り応力下にあり,二重層厚さと成長温度とが応力に影響する主要な因子であり,二重層厚さとALD温度とを上昇させると残留応力は減少する。硬度はALD温度を高めると上昇し,TiO₂比率を高めると減少する。接合係数はほぼ安定にとどまる。ナノ積層体のシリコン上への密着性は良好であった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *表面反応 ,  膜厚 ,  *被覆 ,  MEMS ,  基板 ,  *酸化アルミニウム ,  *酸化チタン ,  *積層構造 ,  残留応力 ,  *密着性 ,  *基板温度 ,  水 ,  塩化チタン ,  *引張応力 ,  硬度 ,  ケイ素
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  自己律速表面反応 ,  *コンフォーマルコーティング ,  ナノ積層構造 ,  四塩化チタン

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： トリメチルアルミニウム

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子層堆積法 ,  成長 ,  酸化アルミ ,  酸化チタン ,  ナノ積層体 ,  機械的性質