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J-GLOBAL ID：201702299969942643   整理番号：17A0401114

a-C:H膜の調製のための準大気圧グロー放電プラズマの特性【Powered by NICT】

Characteristics of sub-atmospheric pressure glow discharge plasmas for preparation of a-C:H films

著者 (6件)： Kikuchi Yusuke (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan) ,  Ogura Masataka (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan) ,  Otsubo Akira (Kurita Seisakusho Co. Ltd., Ujitawara-cho Yuyatani, Tsuduki-gun, Kyoto 610-0221, Japan) ,  Nishimura Yoshimi (Kurita Seisakusho Co. Ltd., Ujitawara-cho Yuyatani, Tsuduki-gun, Kyoto 610-0221, Japan) ,  Nagata Masayoshi (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan) ,  Yatsuzuka Mitsuyasu (Graduate School of Engineering, University of Hyogo, 2167 Shosha, Himeji, Hyogo 671-2280, Japan)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 136  ページ： 196-202  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2kPaの亜大気圧でのヘリウムと窒素の混合ガスを用いたパルスグロー放電プラズマを用いたa-C:H膜の合成の新しい方法を提案した。高繰返しバイポーラ電圧パルスを印加することによる対平行平板電極のパルスグロー放電プラズマの特性を発光分光法を用いて調べた。窒素分子(337.1 nm)の第二正システムの0 0遷移とイオン化窒素分子(391.4 nm)の第一負系の強度の比は,放電プラズマ中の電場強度を検討した。プラズマ発光の空間構造は典型的なグロー放電のそれと類似していた。も強い電界は,電極と電源の間に加えインダクタで誘起された負のリップルパルス電圧の間にカソード電極近傍で現れることが分かった。リップルパルス電圧印加,アセチレンを前駆体ガスに用いたパルスグロー放電プラズマで調製することに成功した7GPaの硬度を持つシリコン基板上に均一なa-C:H膜。堆積速度が低いガス圧力下で通常のプラズマCVD法のそれよりも約10倍高い0.2μm/分であった。衝突プラズマシースモデルを用いて負にバイアスされた基板への入射イオンエネルギーの概算は100kPaから2kPaまで中性ガス圧の減少のために.~3炭素結合の分率の増大に必要であることを入射イオンエネルギーの増加の可能性を示唆していることを議論した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： パルス ,  プラズマCVD ,  ヘリウム ,  硬度 ,  窒素 ,  *プラズマ ,  *グロー放電 ,  電界強度 ,  混合気体 ,  堆積速度 ,  電場 ,  発光分光法
準シソーラス用語： イオンエネルギー ,  *放電プラズマ ,  *グロー放電プラズマ , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 準大気圧圧力プラズマ ,  高電圧パルス ,  パルスグロー放電 ,  ダイヤモンド状炭素膜

分類 (1件)： 気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 調製 ,  大気圧グロー放電 ,  プラズマ