特許

J-GLOBAL ID：201703000076464853

スルホニウム塩および光酸発生剤

発明者： 池田 卓也 ,  高嶋 祐作 ,  安井 誠治 ,  小室 嘉崇 ,  山崎 広人 ,  新井 雅俊
出願人/特許権者： サンアプロ株式会社 ,  東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 林 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-128335
公開番号（公開出願番号）：特開2017-008014
出願日： 2015年06月26日
公開日（公表日）： 2017年01月12日
要約：

【課題】短波長の光や電子線及びX線等の電離性放射線に対して高い分解効率を有する新たな光酸発生剤の提供。【解決手段】式(1)で示されるスルホニウム塩及び該スルホニウム塩。〔R1〜R4はC1〜4のパーフルオロアルキル、ニトロ等;R5はアルキル等〕【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示されるスルホニウム塩。

IPC (2件)：

C07C 381/12 ,  G03F 7/004

FI (2件)：

C07C381/12 ,  G03F7/004 503A

Fターム (16件)：

2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CC17 ,  2H225CA12 ,  2H225CB18 ,  2H225CC01 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  2H225CC17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB48 ,  4H006TN10

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 化学増幅型レジスト組成物、ネガ型化学増幅型レジスト組成物、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、フォトマスク及びパターン形成方法、並びに、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-051817   出願人：富士フイルム株式会社
• インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-376273   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 重合性組成物及び平版印刷版原版
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-420733   出願人：富士写真フイルム株式会社
• スルホニウム塩および光酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-114827   出願人：サンアプロ株式会社, 東京応化工業株式会社