特許
J-GLOBAL ID:201703000599328228

導電性電極活物質、導電性電極活物質製造方法、及びマグネシウム回収方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平井 安雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-103060
公開番号(公開出願番号):特開2014-224282
特許番号:特許第6141679号
出願日: 2013年05月15日
公開日(公表日): 2014年12月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基材の表面に100〜500μmの凹凸形状で形成される基礎凹部と、前記基礎凹部上に10〜50μmの凹凸形状で形成される微細凹部とを含み、前記基礎凹部及び微細凹部に形成されたダイヤモンド結晶により、当該基材の表面が被膜されている導電性電極活物質から構成された溶融塩電解用電極を陰極に用いて、溶融塩電解によりマグネシウム塩化物から金属マグネシウムを回収するマグネシウム回収工程を含むことを特徴とする マグネシウム回収方法。
IPC (2件):
C25C 7/02 ( 200 6.01) ,  C25C 3/04 ( 200 6.01)
FI (2件):
C25C 7/02 308 ,  C25C 3/04
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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